Non-destructive chemical depth-profiling by variable excitation energy XPS: TFAA derivatized allyl alcohol - ethylene plasma polymer films
Autor*innen: | Iris Retzko, Renate Mix, Sufal Swaraj, Wolfgang UngerORCiD, N. Matsubayashi, M. Imamura, T. Tanaka, H. Shimada |
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Dokumenttyp: | Sonstiges |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Photon factory activity report 2003, Part B - Users' report |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2004 |
Verlag: | KEK - High Energy Accelerator Research Organization |
Verlagsort: | Tsukuba |
Jahrgang/Band: | 21 |
Erste Seite: | 76 |
Freie Schlagwörter: | Oberflächenanalytik; Plasmapolymerisation |
URL: | http://pfwww.kek.jp/acr2003pdf/part_b/pf03b076.pdf |
ISSN: | 1344-6339 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access") |
Bibliotheksstandort: | Sonderstandort: Publica-Schrank |
Datum der Freischaltung: | 19.02.2016 |
Referierte Publikation: | Nein |