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The influence of surface roughness on the adhesion force

  • Adhesion measurements are presented which were carried out with an atomic force microscope between polymer balls attached to a cantilever and a silicon wafer under ultra high vacuum conditions. In using a silicon surface with a defined structure a correlation between adhesion force and contact area was found. This correlation could partly be explained by the Johnson-Kendall-Roberts model, if a change of the surface energy is assumed as a result of the structuring. For a constant geometric contact area an additional structuring leads to a decrease of the adhesion force.

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Autor*innen:Kerstin Meine, K. Kloß, Thomas Schneider, Dirk SpaltmannORCiD
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Surface and interface analysis
Jahr der Erstveröffentlichung:2004
Verlag:Wiley
Verlagsort:Chichester
Jahrgang/Band:36
Ausgabe/Heft:8
Erste Seite:694
Letzte Seite:697
Freie Schlagwörter:AFM; Adhesion; JKR model; Roughness; Surface energy; UHV
Veranstaltung:10th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis (ECASIA '03)
Veranstaltungsort:Berlin
Beginndatum der Veranstaltung:2003-10-05
Enddatum der Veranstaltung:2003-10-10
DOI:10.1002/sia.1738
ISSN:0142-2421
ISSN:1096-9918
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:25.11.2004
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