The influence of surface roughness on the adhesion force
- Adhesion measurements are presented which were carried out with an atomic force microscope between polymer balls attached to a cantilever and a silicon wafer under ultra high vacuum conditions. In using a silicon surface with a defined structure a correlation between adhesion force and contact area was found. This correlation could partly be explained by the Johnson-Kendall-Roberts model, if a change of the surface energy is assumed as a result of the structuring. For a constant geometric contact area an additional structuring leads to a decrease of the adhesion force.
Autor*innen: | Kerstin Meine, K. Kloß, Thomas Schneider, Dirk SpaltmannORCiD |
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Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Surface and interface analysis |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2004 |
Verlag: | Wiley |
Verlagsort: | Chichester |
Jahrgang/Band: | 36 |
Ausgabe/Heft: | 8 |
Erste Seite: | 694 |
Letzte Seite: | 697 |
Freie Schlagwörter: | AFM; Adhesion; JKR model; Roughness; Surface energy; UHV |
Veranstaltung: | 10th European Conference on Applications of Surface and Interface Analysis (ECASIA '03) |
Veranstaltungsort: | Berlin |
Beginndatum der Veranstaltung: | 2003-10-05 |
Enddatum der Veranstaltung: | 2003-10-10 |
DOI: | 10.1002/sia.1738 |
ISSN: | 0142-2421 |
ISSN: | 1096-9918 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access") |
Bibliotheksstandort: | Sonderstandort: Publica-Schrank |
Datum der Freischaltung: | 19.02.2016 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 25.11.2004 |