Dual beam organic depth profiling using large argon cluster ion beams
- Argon cluster sputtering of an organic multilayer reference material consisting of two organic components, 4,4'-bis[N-(1-naphthyl-1-)-N-phenyl- amino]-biphenyl (NPB) and aluminium tris-(8-hydroxyquinolate) (Alq3), materials commonly used in organic light-emitting diodes industry, was carried out using time-of-flight SIMS in dual beam mode. The sample used in this study consists of a ~400-nm-thick NPB matrix with 3-nm marker layers of Alq3 at depth of ~50, 100, 200 and 300 nm. Argon cluster sputtering provides a constant sputter yield throughout the depth profiles, and the sputter yield volumes and depth resolution are presented for Ar-cluster sizes of 630, 820, 1000, 1250 and 1660 atoms at a kinetic energy of 2.5 keV. The effect of cluster size in this material and over this range is shown to be negligible.
Autor*innen: | Markus Holzweber, A.G. Shard, H. Jungnickel, A. Luch, Wolfgang UngerORCiD |
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Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Surface and interface analysis |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2014 |
Verlag: | Wiley |
Verlagsort: | Chichester |
Jahrgang/Band: | 46 |
Erste Seite: | 936 |
Letzte Seite: | 939 |
Freie Schlagwörter: | Ar-GCIB; Argon cluster; Organic depth profiling; SIMS; Secondary Ion Mass Spectrometry; ToF-SIMS |
DOI: | 10.1002/sia.5429 |
ISSN: | 0142-2421 |
ISSN: | 1096-9918 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 20.02.2016 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 18.02.2015 |