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Ultra-thin SiO2 on Si, Part V: Results of a CCQM Pilot Study of Thickness Measurements

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Autoren/innen:M.P. Seah, S.J. Spencer, F. Bensebaa, I. Vickridge, H. Danzebrink, M. Krumrey, Thomas Gross, Werner ÖsterleORCiD, E. Wendler, B. Rheinländer, Y. Azuma, I. Kojima, N. Suzuki, M. Suzuki, S. Tanuma, D.W. Moon, H.J. Lee, H.M. Cho, H.Y. Chen, A. T. S. Wee, T. Osipowicz, J.S. Pan, W.A. Jordaan, R. Hauert, U. Klotz, C. van der Marel, M. Verheijen, Y. Tamminga, C. Jeynes, P. Bailey, S. Biswas, U. Falke, N.V. Nguyen, D. Chandler-Horowitz, J.R. Ehrstein, D. Muller, J.A. Dura
Dokumenttyp:Forschungsbericht
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):NPL Report COAM S 14
Jahr der Erstveröffentlichung:2003
Herausgeber (Institution):National Physical Laboratory, Teddington, Middlesex, UK
Erste Seite:57 pages
Freie Schlagwörter:Ellipsometry; SiO2; TEM; Thickness; Thin films; XPS
ISSN:1473-2734
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Nein