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Thermal expansion of synthetic fused silica as a function of OH content and fictive temperature

  • A matrix of synthetic fused silica samples with OH contents from 30 to 1300 ppm and of a fictive temperature from 1000 to 1300 °C has been characterized regarding their thermal expansion with high precision. The thermal expansion increases with fictive temperature and drops with OH content. Although fictive temperature and OH are coupled due to the influence of OH on the relaxation of the network, an independent influence of the OH content on thermal expansion has been observed. This may provide a deeper insight into the impact of impurities incorporated into the fused silica network.

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Metadaten
Autor*innen:B. Kühn, Reinhard Schadrack
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Journal of non-crystalline solids
Jahr der Erstveröffentlichung:2009
Verlag:North-Holland Publ. Co.
Verlagsort:Amsterdam
Jahrgang/Band:355
Ausgabe/Heft:4-5
Erste Seite:323
Letzte Seite:326
Freie Schlagwörter:Composition; Glasses; Silica; Structural relaxation; Thermal properties; Water in glass
DOI:10.1016/j.jnoncrysol.2008.11.005
ISSN:0022-3093
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:09.03.2009
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