Femtosecond-laser induced ablation of silicate glasses and the intrinsic dissociation energy
- The relation between ablation threshold fluence upon femtosecond laser pulse irradiation and the average dissociation energy density of silicate based multicomponent glass is studied. A simple model based on multiphoton absorption quantifies the absorbed energy density at the ablation threshold fluence. This energy density is compared to a calculated energy density which is necessary to decompose the glass compound into its atomic constituents. The results confirm that this energy density is a crucial intrinsic material parameter for the description of the femtosecond laser ablation threshold fluence of dielectrics.
Autor*innen: | M. Grehn, T. Seuthe, M. Höfner, N. Griga, C. Theiss, A. Mermillod-Blondin, Markus Eberstein, H. Eichler, Jörn BonseORCiD |
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Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Optical Materials Express |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2014 |
Herausgeber (Institution): | Optical Society of America |
Verlag: | OSA |
Verlagsort: | Washington, DC |
Jahrgang/Band: | 4 |
Ausgabe/Heft: | 4 |
Erste Seite: | 689 |
Letzte Seite: | 700 |
DOI: | 10.1364/OME.4.000689 |
ISSN: | 2159-3930 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 20.02.2016 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 04.04.2014 |