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Precision laser ablation of dielectrics in the 10-fs regime

  • Zusammenfassung Laser pulses in the 10-fs domain provide a quality of micromachining of fused silica and borosilicate glass that is unobtainable with longer pulses in the range of several 100 femtoseconds up to picoseconds. The shortening of the pulses reduces the statistical behavior of the material removal and the ablation process thus attains a more deterministic and reproducible character. The improved reproducibility of ablation is accompanied by significantly smoother morphology. This offers the potential for lateral and vertical machining precision of the order of 100 nm and 10 nm, respectively.

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Metadaten
Autor*innen:Jörg KrügerORCiD, Wolfgang Kautek, M. Lenzner, F. Krausz
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Applied physics A
Jahr der Erstveröffentlichung:1999
Verlag:Springer
Verlagsort:Berlin
Jahrgang/Band:68
Ausgabe/Heft:3
Erste Seite:369
Letzte Seite:371
Freie Schlagwörter:Laser ablation
DOI:10.1007/s003390050906
ISSN:0947-8396
Verfügbarkeit des Dokuments:Weder Datei noch physisches Exemplar vorhanden ("No Access")
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:28.07.2000
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