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Electron probe microanalysis (EPMA) measurement of thin-film thickness in the nanometre range

  • The thickness of thin films of platinum and nickel on fused silica and silicon substrates has been determined by EPMA using the commercial software STRATAGEM for calculation of film thickness. Film thickness ranged in the order 10 nm. An attempt was made to estimate the confidence range of the method by comparison with results from other methods of analysis. The data show that in addition to the uncertainty of the spectral intensity measurement and the complicated fitting routine, systematic deviation caused by the underlying model should be added. The scattering in the results from other methods does not enable specification of a range of uncertainty, but deviations from the real thickness are estimated to be less than 20%.

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Metadaten
Autoren/innen:Mathias Procop, Martin Radtke, M. Krumrey, K. Hasche, S. Schädlich, W. Frank
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Analytical and bioanalytical chemistry
Jahr der Erstveröffentlichung:2002
Verlag:Springer
Verlagsort:Berlin
Jahrgang/Band:374
Erste Seite:631
Letzte Seite:634
Freie Schlagwörter:EPMA; Electron probe microanalysis; Thickness measurement; Thin films; X-rays
DOI:https://doi.org/10.1007/s00216-002-1514-5
ISSN:1618-2642
ISSN:1618-2650
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Bibliotheksstandort:ZF 13
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:07.03.2005