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On the damage behavior of dielectric films when illuminated with multiple femtosecond laser pulses

  • The physical effects reducing the damage threshold of dielectric films when exposed to multiple femtosecond pulses are investigated. The measured temperature increase of a Ta2O5 film scales exponentially with the pulse fluence. A polarized luminescence signal is observed that depends quadratically on the pulse fluence and is attributed to twophoton excitation of self-trapped excitons that form after band-to-band excitation. The damage fluence decreases with increasing pulse number, but is independent of the repetition rate from 1 Hz to 1 kHz at a constant pulse number. The repetition rate dependence of the breakdown threshold is also measured for TiO2 , HfO2, Al2O3, and SiO2 films. A theoretical model is presented that explains these findings.

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Autor*innen:M. Mero, B. Clapp, J.C. Jasapara, W. Rudolph, D. Ristau, K. Starke, Jörg KrügerORCiD, Sven Martin, Wolfgang Kautek
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Optical engineering
Jahr der Erstveröffentlichung:2005
Verlag:Dekker
Verlagsort:New York, NY
Jahrgang/Band:44
Ausgabe/Heft:5
Erste Seite:051107-1-051107-7
Freie Schlagwörter:Coatings; Laser materials; Laser-induced damage; Ultrafast phenomena
DOI:10.1117/1.1905343
ISSN:0892-354X
Verfügbarkeit des Dokuments:Weder Datei noch physisches Exemplar vorhanden ("No Access")
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Nein
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