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Chemical characterisation of nitrogen-rich plasma-polymer films deposited in dielectric barrier discharges at atmospheric pressure

  • We have used an atmospheric pressure DBD apparatus to deposit novel families of N-rich plasma polymers (PP:N), using mixtures of three different hydrocarbon precursors in nitrogen at varying respective gas flow ratios. This research focuses on the overall chemical characterisation of those materials, with specific attention to (semi)-quantitative analysis of functional groups. Well-established and some lesser-known analytical techniques have been combined to provide the best possible chemical and structural characterisations of these three families of PP:N thin films, namely XPS, NEXAFS and FT-IR spectroscopy.

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Autor*innen:P.-L. Girard-Lauriault, P. Desjardins, Wolfgang UngerORCiD, Andreas Lippitz, M. R. Wertheimer
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Plasma processes and polymers
Jahr der Erstveröffentlichung:2008
Verlag:Wiley-VCH Verl.
Verlagsort:Weinheim
Jahrgang/Band:5
Ausgabe/Heft:7
Erste Seite:631
Letzte Seite:644
Freie Schlagwörter:DBD-plasma; NEXAFS; Plasma polymerization; XPS
DOI:10.1002/ppap.200800054
ISSN:1612-8850
ISSN:1612-8869
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:08.09.2008
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