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Thin-film metrology of tilted and curved surfaces by imaging Mueller-matrix ellipsometry

  • For the vast majority of ellipsometric measurements, the application of planar substrates is mandatory and requires a proper sample alignment prior to the measurement. Here, the authors present a generalized approach of how to extract the isotropic ellipsometric sample parameters from an imaging Mueller-matrix measurement even if the sample is significantly misaligned. They validate the method by layer-thickness calculations based on imaging Mueller-matrix measurements of flat crystalline silicon samples that were misaligned on purpose. Furthermore, they also exploit this method’s capabilities to perform spatially resolved layer-thickness measurements of a single-layer indium-tin-oxide coating on a fused-silica microlens without the need of realignment or repositioning of the sample during the measurement.

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Autor*innen:M. Duwe, J.-H. Quast, S. Schneider, Daniel Fischer, Uwe Beck
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Journal of Vacuum Science & Technology B
Jahr der Erstveröffentlichung:2019
Organisationseinheit der BAM:6 Materialchemie
6 Materialchemie / 6.7 Materialsynthese und Design
Herausgeber (Institution):American Vacuum Society
Verlag:AIP
Verlagsort:New York, NY
Jahrgang/Band:37
Ausgabe/Heft:6
Erste Seite:062908
DDC-Klassifikation:Naturwissenschaften und Mathematik / Chemie / Analytische Chemie
Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten
Freie Schlagwörter:Metrology; Mueller-Matrix imaging ellipsometry; Polarization spectroscopy; Spectroskopic Imaging; Thin films
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Chemie und Prozesstechnik
Material
Veranstaltung:8th International conference on spectroscopic ellipsometry (ICSE-8)
Veranstaltungsort:Barcelona, Spain
Beginndatum der Veranstaltung:26.05.2019
Enddatum der Veranstaltung:31.05.2019
DOI:10.1116/1.5122757
ISSN:2166-2746
ISSN:2327-9877
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:22.01.2020
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:16.04.2020
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