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Femtosecond laser damage of a high reflecting mirror

  • Multiple pulse investigations of 130-fs Ti:sapphire laser-induced damage of a high reflecting mirror consisting of alternating ?/4-layers of Ta2O5 and SiO2 and a single 500-nm Ta2O5 film were performed. In both cases, fused silica served as the substrate. For a fixed number of 1000 laser pulses per spot, a decrease in the damage threshold fluence of the mirror by a factor of two was observed by changing the repetition rate from 10 Hz to 1 kHz. A single 500-nm Ta2O5 film shows higher damage resistance compared to the mirror. The mirror and the Ta2O5 film samples were partially coated with a 300-nm-thick aluminium layer. The aluminium coating does not influence the damage threshold of the dielectrics underneath.

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Metadaten
Autor*innen:Jörn BonseORCiD, Steffen Baudach, Wolfgang Kautek, Jörg KrügerORCiD, E. Welsch
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Thin solid films
Jahr der Erstveröffentlichung:2002
Verlag:Elsevier
Verlagsort:Amsterdam
Ausgabe/Heft:408
Erste Seite:297
Letzte Seite:301
Freie Schlagwörter:Aluminium; Laser ablation; Optical coatings; Silicon oxide
DOI:10.1016/S0040-6090(02)00074-3
ISSN:0040-6090
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:06.03.2003
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