Das Suchergebnis hat sich seit Ihrer Suchanfrage verändert. Eventuell werden Dokumente in anderer Reihenfolge angezeigt.
  • Treffer 7 von 8
Zurück zur Trefferliste
Zitieren Sie bitte immer diesen URN: urn:nbn:de:kobv:b43-448431

X-ray emission as a potential hazard during ultrashort pulse laser material processing

  • In laser machining with ultrashort laser pulses unwanted X-ray radiation in the keV range can be generated when a critical laser intensity is exceeded. Even if the emitted X-ray dose per pulse is low, high laser repetition rates can lead to an accumulation of X-ray doses beyond exposure safety limits. For 925 fs pulse duration at a center wavelength of 1030 nm, the X-ray emission was investigated up to an intensity of 2.6 × 10^14 W/cm2. The experiments were performed in air with a thin disk laser at a repetition rate of 400 kHz. X-ray spectra and doses were measured for various planar target materials covering a wide range of the periodic table from aluminum to tungsten. Without radiation shielding, the measured radiation doses at this high repetition rate clearly exceed the regulatory limits. Estimations for an adequate radiation shielding are provided.

Volltext Dateien herunterladen

Metadaten exportieren

Weitere Dienste

Teilen auf Twitter Suche bei Google Scholar Anzahl der Zugriffe auf dieses Dokument
Metadaten
Autor*innen:Herbert LegallORCiD, Christoph Schwanke, Simone Pentzien, G. Dittmar, Jörn BonseORCiD, Jörg KrügerORCiD
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Applied physics A
Jahr der Erstveröffentlichung:2018
Organisationseinheit der BAM:6 Materialchemie
6 Materialchemie / 6.2 Material- und Oberflächentechnologien
Veröffentlichende Institution:Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM)
Verlag:Springer
Jahrgang/Band:124
Ausgabe/Heft:6
Erste Seite:Article 407, 1
Letzte Seite:8
DDC-Klassifikation:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten
Freie Schlagwörter:Femtosecond laser; Laser-induced X-ray emission; Radiation protection; Ultrashort laser material interaction
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Material
DOI:10.1007/s00339-018-1828-6
URN:urn:nbn:de:kobv:b43-448431
ISSN:0947-8396
ISSN:1432-0630
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei für die Öffentlichkeit verfügbar ("Open Access")
Lizenz (Deutsch):License LogoCreative Commons - CC BY - Namensnennung 4.0 International
Datum der Freischaltung:07.05.2018
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:14.06.2018
Schriftenreihen ohne Nummerierung:Wissenschaftliche Artikel der BAM
Einverstanden
Diese Webseite verwendet technisch erforderliche Session-Cookies. Durch die weitere Nutzung der Webseite stimmen Sie diesem zu. Unsere Datenschutzerklärung finden Sie hier.