X-Ray Emission during Laser Processing with Ultrashort Laser Pulses
- Ultrashort laser pulse micromachining features a high precision. By increasing the repetition rate of the applied laser to several 100 kHz, laser processing becomes quick and cost-effective and make this method attractive for industrial applications. Upon exceeding a critical laser intensity, hard X-ray radiation is generated as a side effect. Even if the emitted X-ray dose per pulse is low, the accumulated X-ray dose becomes significant for high-repetition-rate laser systems so that radiation safety must be considered.
Autor*innen: | Jörn BonseORCiD |
---|---|
Koautor*innen: | Herbert LegallORCiD, Christoph Schwanke, Simone Pentzien, Jörg KrügerORCiD |
Dokumenttyp: | Vortrag |
Veröffentlichungsform: | Präsentation |
Sprache: | Englisch |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2019 |
Organisationseinheit der BAM: | 6 Materialchemie |
6 Materialchemie / 6.2 Material- und Oberflächentechnologien | |
DDC-Klassifikation: | Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten |
Freie Schlagwörter: | Laser-induced X-ray emission; Radiation protection; Ultrashort laser material interaction |
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM: | Material |
Veranstaltung: | 5th UKP-Workshop: Ultrafast Laser Technology |
Veranstaltungsort: | Aachen, Germany |
Beginndatum der Veranstaltung: | 10.04.2019 |
Enddatum der Veranstaltung: | 11.04.2019 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 17.04.2019 |
Referierte Publikation: | Nein |
Eingeladener Vortrag: | Nein |