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X-ray emission during processing of metals with ultrashort laser pulses

  • Ultrashort laser pulse micromachining features a high precision. By increasing the repetition rate of the applied laser to several 100 kHz, laser processing becomes quick and cost-effective and make this method attractive for industrial applications. Upon exceeding a critical laser intensity, hard X-ray radiation is generated as a side effect. Even if the emitted X-ray dose per pulse is low, the accumulated X-ray dose becomes significant for high-repetition-rate laser systems so that radiation safety must be considered.

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  • Legall_LIPSS-Workshop_Bochum_2018_publica.pdf
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Metadaten
Autoren/innen:Jörn Bonse
Koautoren/innen:Herbert Legall, Christoph Schwanke, Simone Pentzien, Jörg Krüger
Dokumenttyp:Vortrag
Veröffentlichungsform:Präsentation
Sprache:Englisch
Jahr der Erstveröffentlichung:2018
Organisationseinheit der BAM:6 Materialschutz und Oberflächentechnik
6 Materialschutz und Oberflächentechnik / 6.4 Technologien mit Nanowerkstoffen
DDC-Klassifikation:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten
Freie Schlagwörter:Laser processing; Metals; Ultrashort; X-ray
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Material
Material / Materialien und Stoffe
Veranstaltung:8th International LIPSS Workshop
Veranstaltungsort:Bochum, Germany
Beginndatum der Veranstaltung:27.09.2018
Enddatum der Veranstaltung:28.09.2018
Verfügbarkeit des Volltexts:Volltext-PDF im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:01.10.2018
Referierte Publikation:Nein