Femtosecond laser damage of a high reflecting mirror
- Multiple pulse investigations of 130-fs Ti:sapphire laser-induced damage of a high reflecting mirror consisting of alternating ?/4-layers of Ta2O5 and SiO2 and a single 500-nm Ta2O5 film were performed. In both cases, fused silica served as the substrate. For a fixed number of 1000 laser pulses per spot, a decrease in the damage threshold fluence of the mirror by a factor of two was observed by changing the repetition rate from 10 Hz to 1 kHz. A single 500-nm Ta2O5 film shows higher damage resistance compared to the mirror. The mirror and the Ta2O5 film samples were partially coated with a 300-nm-thick aluminium layer. The aluminium coating does not influence the damage threshold of the dielectrics underneath.
Autor*innen: | Jörn BonseORCiD, Steffen Baudach, Wolfgang Kautek, Jörg KrügerORCiD, E. Welsch |
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Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Thin solid films |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2002 |
Verlag: | Elsevier |
Verlagsort: | Amsterdam |
Ausgabe/Heft: | 408 |
Erste Seite: | 297 |
Letzte Seite: | 301 |
Freie Schlagwörter: | Aluminium; Laser ablation; Optical coatings; Silicon oxide |
DOI: | 10.1016/S0040-6090(02)00074-3 |
ISSN: | 0040-6090 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access") |
Bibliotheksstandort: | Sonderstandort: Publica-Schrank |
Datum der Freischaltung: | 19.02.2016 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 06.03.2003 |