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Femtosecond-laser induced ablation of silicate glasses and the intrinsic dissociation energy

  • The relation between ablation threshold fluence upon femtosecond laser pulse irradiation and the average dissociation energy density of silicate based multicomponent glass is studied. A simple model based on multiphoton absorption quantifies the absorbed energy density at the ablation threshold fluence. This energy density is compared to a calculated energy density which is necessary to decompose the glass compound into its atomic constituents. The results confirm that this energy density is a crucial intrinsic material parameter for the description of the femtosecond laser ablation threshold fluence of dielectrics.

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Metadaten
Autoren/innen:M. Grehn, T. Seuthe, M. Höfner, N. Griga, C. Theiss, A. Mermillod-Blondin, Markus Eberstein, H. Eichler, Jörn Bonse
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Optical Materials Express
Jahr der Erstveröffentlichung:2014
Organisationseinheit der BAM:5 Werkstofftechnik
5 Werkstofftechnik / 5.4 Keramische Prozesstechnik und Biowerkstoffe
6 Materialschutz und Oberflächentechnik
6 Materialschutz und Oberflächentechnik / 6.4 Technologien mit Nanowerkstoffen
Herausgeber (Institution):Optical Society of America
Verlag:OSA
Verlagsort:Washington, DC
Jahrgang/Band:4
Ausgabe/Heft:4
Erste Seite:689
Letzte Seite:700
DOI:https://doi.org/10.1364/OME.4.000689
ISSN:2159-3930
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:20.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:04.04.2014