Diffraction-assisted micropatterning of silicon surfaces by ns-laser irradiation
- Single-pulse (532 nm, 8 ns) micropatterning of silicon with nanometric surface modulation is demonstrated by irradiating through a diffracting pinhole. The irradiation results obtained at fluences above the melting threshold are characterized by scanning electron and scanning force microscopy and reveal a good agreement with Fresnel diffraction theory. The physical mechanism is identified and discussed on basis of both thermocapillary and chemicapillary induced material transport during the molten state of the surface.
Autor*innen: | E. Haro-Poniatowski, C. Acosta-Zepeda, G. Mecalco, J.L. Hernández-Pozos, Nikola Batina, I. Morales-Reyes, Jörn BonseORCiD |
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Dokumenttyp: | Zeitschriftenartikel |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Englisch |
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Journal of applied physics |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2014 |
Verlag: | American Institute of Physics |
Verlagsort: | Melville, NY |
Jahrgang/Band: | 115 |
Ausgabe/Heft: | 22 |
Erste Seite: | Article 224309, 1 |
Letzte Seite: | 6 |
DOI: | 10.1063/1.4882660 |
URL: | http://scitation.aip.org/content/aip/journal/jap/115/22/10.1063/1.4882660 |
ISSN: | 0021-8979 |
ISSN: | 1089-7550 |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 20.02.2016 |
Referierte Publikation: | Ja |
Datum der Eintragung als referierte Publikation: | 19.06.2014 |