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Diffraction-assisted micropatterning of silicon surfaces by ns-laser irradiation

  • Single-pulse (532 nm, 8 ns) micropatterning of silicon with nanometric surface modulation is demonstrated by irradiating through a diffracting pinhole. The irradiation results obtained at fluences above the melting threshold are characterized by scanning electron and scanning force microscopy and reveal a good agreement with Fresnel diffraction theory. The physical mechanism is identified and discussed on basis of both thermocapillary and chemicapillary induced material transport during the molten state of the surface.

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Metadaten
Autoren/innen:E. Haro-Poniatowski, C. Acosta-Zepeda, G. Mecalco, J.L. Hernández-Pozos, Nikola Batina, I. Morales-Reyes, Jörn Bonse
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Journal of applied physics
Jahr der Erstveröffentlichung:2014
Organisationseinheit der BAM:6 Materialschutz und Oberflächentechnik
6 Materialschutz und Oberflächentechnik / 6.4 Technologien mit Nanowerkstoffen
Verlag:American Institute of Physics
Verlagsort:Melville, NY
Jahrgang/Band:115
Ausgabe/Heft:22
Erste Seite:Article 224309, 1
Letzte Seite:6
DOI:https://doi.org/10.1063/1.4882660
URL:http://scitation.aip.org/content/aip/journal/jap/115/22/10.1063/1.4882660
ISSN:0021-8979
ISSN:1089-7550
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access")
Datum der Freischaltung:20.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:19.06.2014