Messung von Mikrogeometrien mit industrieller Computertomographie
- Die industrielle Computertomographie (CT) ist ein gut bekanntes Verfahren zur zerstörungsfreien Prüfung von Werkstücken. In den letzten Jahren wird die CT aber zunehmend auch für dimensioneile Messungen von Werkstücken eingesetzt. Der wesentliche Vorteil der CT liegt in der Kompletterfassung mit hoher Messpunktdichte, die auch für andere Messverfahren unzugängliche, innere Geometrien einschließt. An kleinen Bauteilen können Strukturen bis herunter zu wenigen Mikrometern gemessen werden, wodurch sich das Verfahren gut für die Messung von Mikroteilen eignet. Nachteilig ist, dass viele Einflussgrößen das Messergebnis beeinflussen, was die Rückführung der Messergebnisse, die Bestimmung der Messunsicherheit und die Definition von Spezifikationen für CT-Anlagen erschwert. Der Beitrag stellt nach einer Einführung in das Verfahren Anwendungsbeispiele der CT an Mikroteilen vor. Darüber hinaus geht der Beitrag auf Prüfkörper und -verfahren zur Einmessung und Überprüfung von CT-Anlagen ein undDie industrielle Computertomographie (CT) ist ein gut bekanntes Verfahren zur zerstörungsfreien Prüfung von Werkstücken. In den letzten Jahren wird die CT aber zunehmend auch für dimensioneile Messungen von Werkstücken eingesetzt. Der wesentliche Vorteil der CT liegt in der Kompletterfassung mit hoher Messpunktdichte, die auch für andere Messverfahren unzugängliche, innere Geometrien einschließt. An kleinen Bauteilen können Strukturen bis herunter zu wenigen Mikrometern gemessen werden, wodurch sich das Verfahren gut für die Messung von Mikroteilen eignet. Nachteilig ist, dass viele Einflussgrößen das Messergebnis beeinflussen, was die Rückführung der Messergebnisse, die Bestimmung der Messunsicherheit und die Definition von Spezifikationen für CT-Anlagen erschwert. Der Beitrag stellt nach einer Einführung in das Verfahren Anwendungsbeispiele der CT an Mikroteilen vor. Darüber hinaus geht der Beitrag auf Prüfkörper und -verfahren zur Einmessung und Überprüfung von CT-Anlagen ein und berichtet über aktuelle Normungsaktivitäten. Abschließend werden Möglichkeiten zur weiteren Steigerung der Auflösung aufgezeigt, um zukünftig möglicherweise auch Nanogeometrien messen zu können.…
Autor*innen: | U. Neuschaefer-Rube, M. Bartscher, M. Schulze, M. Neukamm, Andreas Staude, Jürgen Goebbels |
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Dokumenttyp: | Beitrag zu einem Tagungsband |
Veröffentlichungsform: | Verlagsliteratur |
Sprache: | Deutsch |
Titel des übergeordneten Werkes (Deutsch): | 4. Fachtagung Metrologie in der Mikro- und Nanotechnik 2011 - Messprinzipien - Messgeräte - Anwendungen (VDI-Berichte 2133) |
Jahr der Erstveröffentlichung: | 2011 |
Verlag: | VDI-Verl. |
Verlagsort: | Düsseldorf |
Jahrgang/Band: | 2133 |
Erste Seite: | 137 |
Letzte Seite: | 148 |
Veranstaltung: | 4. Fachtagung Metrologie in der Mikro- und Nanotechnik 2011 - Messprinzipien - Messgeräte - Anwendungen |
Veranstaltungsort: | Erlangen, Germany |
Beginndatum der Veranstaltung: | 25.10.2011 |
Enddatum der Veranstaltung: | 26.10.2011 |
ISSN: | 0083-5560 |
ISBN: | 978-3-18-092133-4 |
Bemerkung: | Serientitel: VDI-Berichte – Series title: VDI-Berichte |
Verfügbarkeit des Dokuments: | Datei im Netzwerk der BAM verfügbar ("Closed Access") |
Datum der Freischaltung: | 19.02.2016 |
Referierte Publikation: | Nein |