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Referenzverfahren zur Bestimmung von optischen und dielektrischen Materialeigenschaften sowie der Schichtdicke dünner Schichten mittels Ellipsometrie / Reference procedure for the determination of optical and dielectric material properties and the layer thickness of thin films by ellipsometry

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Metadaten
Autor*innen:Uwe Beck
Dokumenttyp:Sonstiges
Veröffentlichungsform:Graue Literatur
Sprache:Mehrsprachig
Jahr der Erstveröffentlichung:2004
Verlag:Beuth
Verlagsort:Berlin
Ausgabe/Heft:DIN PAS 1022
Erste Seite:1
Letzte Seite:17
Freie Schlagwörter:Ellipsometrie
Bemerkung:
Sprachen: Deutsch/Englisch - Languages: German/English
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Nein
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