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Molecular Dynamics of Ultra-Thin Supported Polysulfone Films

  • Ultra-thin films of polysulfone are prepared by spin coating down to thicknesses below 10 nm on an aluminum support and investigated by broadband dielectric spectroscopy. As a main result is was found that the glass transition temperature Tg does not depend on the film thickness for thicknesses larger than 10 nm. Secondly from the analysis of the dielectric strength it is concluded that the polysulfone segments form an adsorbed layer with a reduced mobility at the Al support having a thickness of ca. 5 nm.

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Autor*innen:Diana Labahn, Andreas SchönhalsORCiD
Persönliche Herausgeber*innen:A. Co, L. G. Leal, R. H. Colby, A. J. Giacomin
Dokumenttyp:Beitrag zu einem Tagungsband
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):AIP Conference Proceedings 1027
Jahr der Erstveröffentlichung:2008
Verlag:American Institute of Physics
Verlagsort:Melville, NY, USA
Jahrgang/Band:1027
Ausgabe/Heft:1
Erste Seite:1300
Letzte Seite:1302
Freie Schlagwörter:Dielectric relaxation; Glass transition; Polysulfone; Ultra-thin films
Veranstaltung:15th International Congress on Rheolog, The Society of Rheology 80th Annual Meeting
Veranstaltungsort:Monterey, CA, USA
Beginndatum der Veranstaltung:2008-08-03
Enddatum der Veranstaltung:2008-08-08
DOI:10.1063/1.2964552
ISBN:978-0-7354-0549-3
Verfügbarkeit des Dokuments:Physisches Exemplar in der Bibliothek der BAM vorhanden ("Hardcopy Access")
Bibliotheksstandort:Sonderstandort: Publica-Schrank
Datum der Freischaltung:19.02.2016
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:04.09.2008
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