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Trained to corrode: Cultivation in the presence of Fe(III) increases the electrochemical activity of iron reducing bacteria – An in situ electrochemical XANES study

  • This paper reports results from in situ electrochemical X-ray absorption near-edge spectroscopy (XANES) studies of the corrosion processes on model thin iron films in the presence of iron reducing bacteria Shewanella putrefaciens. Here we investigate the electrochemical activity of two cultures grown in the presence and absence of Fe(III) citrate in the culture medium. The XANES spectra and the OCP data of the Fe sample incubated with the culture grown in absence of Fe(III) did not show any significant changes during twenty hours of monitoring. In the case of the culture grown in Fe(III) containing medium, an accelerated dissolution of the iron film was observed together with the formation of a mixed Fe(II)-Fe(III) hydroxide surface layer. The open circuit potential (OCP) steadily approached the free corrosion potential of iron in neutral chloride containing electrolytes, indicating a continuous dissolution process without passivation.

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Autoren/innen:Nina Wurzler, J. D. Schütter, R. Wagner, M. Dimper, D. Lützenkirchen-Hecht, Özlem Özcan
Dokumenttyp:Zeitschriftenartikel
Veröffentlichungsform:Verlagsliteratur
Sprache:Englisch
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Electrochemistry Communications
Jahr der Erstveröffentlichung:2020
Organisationseinheit der BAM:6 Materialchemie
6 Materialchemie / 6.2 Grenzflächenprozesse und Korrosion
Veröffentlichende Institution:Bundesanstalt für Materialforschung und -prüfung (BAM)
Verlag:Elsevier B.V.
Jahrgang/Band:112
Erste Seite:106673
DDC-Klassifikation:Technik, Medizin, angewandte Wissenschaften / Ingenieurwissenschaften / Ingenieurwissenschaften und zugeordnete Tätigkeiten
Freie Schlagwörter:Electrochemistry; Iron reducing bacteria; Microbiologically influenced corrosion; XANES
Themenfelder/Aktivitätsfelder der BAM:Material
Material / Degradation von Werkstoffen und Materialien
DOI:https://doi.org/10.1016/j.elecom.2020.106673
URN:urn:nbn:de:kobv:b43-505732
Verfügbarkeit des Dokuments:Datei für die Öffentlichkeit verfügbar ("Open Access")
Lizenz (Deutsch):License LogoCreative Commons - CC BY - Namensnennung 4.0 International
Datum der Freischaltung:19.03.2020
Referierte Publikation:Ja
Datum der Eintragung als referierte Publikation:19.03.2020
Schriftenreihen ohne Nummerierung:Wissenschaftliche Artikel der BAM