TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hiratsuka, M. A1 - Spindler, Ch. A1 - Ohtake, N. A1 - Hertwig, Andreas A1 - Becker, J. A1 - Gäbler, J. A1 - Neubert, Th. A1 - Vergöhl, M. A1 - Winkler, J. A1 - Eypert, C. T1 - Interlaboratory comparison: optical property classification of carbon-based films by ellipsometry N2 - The paper addresses the “INTERLABORATORY COMPARISON: OPTICAL PROPERTY CLASSIFICATION OF CARBON-BASED FILMS BY ELLIPSOMETRY” and the following points are discussed in more detail: Established classification for mechanical properties, Complementary classification for optical properties, Ellipsometry for determination of optical constants n-k plane as material fingerprint, Samples, participants & set-ups (samples: Japan, participants: Japan, Germany, France, set-ups: Japan, Germany, USA) and Results of interlaboratory comparison: thickness, n & k. T2 - ISO TC 107 Meeting Tokyo CY - Tokio, Japan DA - 17.01 2017 KW - Interlaboratory Comparison KW - Optical Property KW - Carbon-based Films KW - Ellipsometry PY - 2017 AN - OPUS4-39028 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas T1 - Ringversuch zur Klassifizierung von Kohlenstoffschichten mittels Ellipsometrie N2 - Der Vortrag widmet sich dem „Ringversuch zur Klassifizierung von Kohlenstoffschichten mittels Ellipsometrie“ und beschreibt die experimentellen Eckdaten, die Ellipsometrie als Messmethode am Beispiel DLC auf Stahl, Proben vs. n-k Ebene vs. Ergebnisse des Ringversuches, messtechnische Bewertung des Ringversuches und normative Bewertung des Ringversuches sowie Schlussfolgerungen. T2 - 9. Sitzung DIN NA 062-01-64 „Kohlenstoffschichten“ CY - Berlin, Deutschland DA - 09.05.2016 KW - Amorphe Kohlenstoffschichten KW - Optische Konstanten KW - Ellipsometrie KW - Klassifizierungssystem PY - 2016 AN - OPUS4-38041 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Unger, Wolfgang A1 - Griepentrog, Michael A1 - Hertwig, Andreas T1 - Plasma Germany, Fachausschuss Normung, Herbstsitzung 2016 N2 - Der Stand der Normung im Bereich der Oberflächentechnik wird zusammengefasst. Aktuelle Normungsvorhaben zur chemischen Oberflächenanalyse, Rastersondenmikroskopie, Nanotechnologie, Oberflächenmesstechnik im Mikro- und Nanobereich, für Anwendungen von Kohlenstoffschichten sowie von Mess- und Prüfverfahren für metallische und anorganische Überzüge werden vorgestellt. Ein Ringversuch zur Klassifizierung von Kohlenstoffschichten mittels Ellipsometrie wird diskutiert. Abschließend wird das DIN-Terminologie Portal erläutert. T2 - Lenkungsausschuss von Plasma Germany, Fachausschuss Normung, Herbstsitzung 2016 CY - Stuttgart, Germany DA - 27.10.2016 KW - Stand der Normung KW - Oberflächentechnik KW - Schichttechnik PY - 2016 AN - OPUS4-38068 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Fischer, Daniel A1 - Hertwig, Andreas A1 - Hidde, Gundula A1 - Stockmann, Jörg M. A1 - Weise, Matthias T1 - Ellipsometric imaging of low-contrast surface modifications and depolarization contrast imaging (DCI) of particulate accumulations N2 - Imaging of surfaces regarding topographical, morphological, micro-structural, and chemical features is a key requirement for quality control for the identification of contaminated, degraded, damaged or deliberately modified surface areas vs. clean, virgin, undamaged or unmodified regions. As optical functions may represent any of these changes on the micro- and nano-scale, imaging ellipsometry (IE) is the technique of choice using either intensity, phase, or/and amplitude contrast for visualization of low-contrast surface modifications [1, 2]. Defects or surface and film features whether native or artificial, intended or unintended, avoidable or unavoidable as well as surface pattern are of interest for quality control. In contrast to microscopic techniques operated at normal incidence, ellipsometry as oblique-incidence technique provides improved contrast for vertically nano-scaled add-on or sub-off features such as ultra-thin transparent films, metallic island films, carbon-based thin films, laser modification or laser induced damage, dried stain, cleaning agent or polymeric residue. Two-sample reference techniques, i.e. referenced spectroscopic ellipsometry (RSE) may further increase sensitivity and decrease measurement time. In case of particulate accumulations depolarization contrast imaging (DCI) may improve the lateral resolution beyond the Abbe limit. This has been proven for silica spheres as reference in terms of single particles, particulate accumulations or particulate monolayers and layer stacks. Scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM) were used for reference measurements of particle diameter, particle height, or particulate layer/accumulation thickness. It has been shown that single silica particles of 250 nm in diameter, i.e. at least a factor of 4 better than the lateral resolution limit as of now, can be visualized on even substrates. However, the ellipsometric measurement of particle diameters of this size needs further efforts interpretation. T2 - Workshop Ellipsometry 2018 CY - Chemnitz, Germaný DA - 19.03.2018 KW - Low-contrast surface modifications KW - Particulate distributions KW - Imaging ellipsometry(IE) KW - Depolarization contrast imaging (DCI) PY - 2018 AN - OPUS4-44548 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas A1 - Winkler, J. T1 - Preliminary work item (PWI) 23131 on standardization of ellipsometry N2 - The paper addresses the PRELIMINARY WORK ITEM (PWI) 23131 ON STANDARDIZATION OF ELLIPSOMETRY and the following points are discussed in more detail: Historical background of ellipsometry, Technical/industrial importance of ellipsometry and Standardization activities on ellipsometry. T2 - ISO TC 107 and JWG 4 meeting CY - Levi, Finland DA - 23.01.2018 KW - Standardization KW - Ellipsometrie KW - Modelling KW - Accreditation PY - 2018 AN - OPUS4-43959 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Baier, Jennifa A1 - Fischer, Daniel A1 - Griepentrog, Michael A1 - Hertwig, Andreas A1 - Hielscher-Hofinger, Stefan A1 - Sahre, Mario A1 - Stockmann, Jörg Manfred A1 - Weise, Matthias T1 - Mapping und Imaging modifizierter Oberflächen: Generische Kenngrößen, Fehlstellen, Reinigungszustand und Haftfestigkeit N2 - Der Vortrag widmet sich dem Mapping und Imaging modifizierter Oberflächen: Generische Kenngrößen, Fehlstellen, Reinigungszustand und Haftfestigkeit. Es werden Untersuchungsmethoden zu ihrer Prüfung dargestellt. T2 - 37. ak-adp 2021, Jena CY - Online meeting DA - 16.06.2021 KW - Qualitätssicherung KW - Mapping modifizierter Oberflächen KW - Generische Kenngrößen KW - Haftfestigkeit KW - Klebfestigkeit PY - 2021 AN - OPUS4-52870 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Griepentrog, Michael A1 - Hertwig, Andreas A1 - Hielscher-Hofinger, Stefan A1 - Lange, Thorid A1 - Weise, Matthias T1 - Uncertainty budgets in surface technology: stepheigt, layerthickness, indentation hardness, adehesive strength N2 - The object (sample) and the measurement/testing procedure may always have unknown degrees of freedom, i.e. instead of 𝐯 ≥ n – 1 in many cases 𝐯 ≫ n - 1 may apply, in particular in the micro- and nano-world! T2 - 10. VDI-Fachtagung, Messunsicherheit und Prüfprozesse CY - Erfurt, Germany DA - 10.11.2021 KW - Methodology in metrology KW - Methodology in testing KW - Spectroscopic Ellipsometry KW - Instrumented Indentation Testing (IIT) KW - Centrifugal Adhesion Testing (CAT) PY - 2021 AN - OPUS4-53986 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Unger, Wolfgang A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan A1 - Griepentrog, Michael A1 - Hertwig, Andreas T1 - Herbstsitzung Plasma Germany 2017, Frohnhausen N2 - Der Vortrag widmet sich den Normenentwicklungen auf den Gebieten der • Chemische Oberflächenanalyse und Rastersondenmikroskopie • Elektronenmikroskopie und Mikrobereichsanalyse • Prüfverfahren (zu Nanotechnologien) • Hardness Testing • Oberflächenmesstechnik im Mikro- und Nanobereich • Kohlenstoff- und keramische Hartstoffschichten • Mess- und Prüfverfahren für Schichten und Schichtsysteme • Dünne Schichten für die Optik • Coating Qualification Tests T2 - FA_NORMUNG_PLASMA_GERMANY CY - Frohnhausen, Germany DA - 08.11.2017 KW - Normen KW - Oberflächentechnik KW - Oberflächenanalytik KW - Oberflächenmesstechnik PY - 2017 AN - OPUS4-42821 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Griepentrog, Michael A1 - Hertwig, Andreas A1 - Hielscher-Hofinger, Stefan A1 - Weise, Matthias T1 - Mechanische, topometrische und optische Charakterisierung von Schichten mit Stand der Normung N2 - Der Vortrag „MECHANISCHE, TOPOMETRISCHE UND OPTISCHE CHARAKTERISIERUNG VON SCHICHTEN MIT STAND DER NORMUNG“ widmet sich unterschiedlichen Beschichtungssystemen und deren mechanischer, topometrischer und optischer Charakterisierung. Über die entsprechenden aktuellen Normen wird informiert. Es betrifft Verfahren wie die Instrumentierte Eindringprüfung (IIT), Centrifugal Adhesion Testing, Weißlichtinterferenzmikroskopie, Tastschnittverfahren und Ellipsometrie (SE). T2 - EFDS, V2019, Vakuum und Plasma CY - Dresden, Germany DA - 08.10.2019 KW - Normung KW - Spektrale Ellipsometrie (SE) KW - Instrumentierte Eindringprüfung (IIT) KW - Centrifugal Adhesion Testing (CAT) KW - Weißlichtinterferenzmikroskopie (WLIM, 3D) PY - 2019 AN - OPUS4-49320 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -