TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas A1 - Winkler, J. T1 - Standardization of ellipsometry N2 - The talk addresses the STANDARDIZATION OF ELLIPSOMETRY and the following points are discussed in more detail: historical background of ellipsometry, history of International Conferences on Ellipsometry, Workshops Ellipsometry in Germany and Europe, information on German/European Working Group Ellipsometry, technical/industrial importance of ellipsometry, applications on non-ideal material systems and standardization activities on ellipsometry. T2 - DIN NA Dünne Schichten für die Optik, Mainz CY - Mainz, Germany DA - 06.06.2018 KW - Standardization KW - Ellipsometry KW - Modelling KW - Accreditation PY - 2018 AN - OPUS4-45167 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas A1 - Kormunda, M. A1 - Ryšánek, P. A1 - Ivanov, L. T1 - Characterisation of magnetron sputtered SnZnOx by means of spectroscopic ellipsometry - how can we analyse TCO materials optically? N2 - Transparent conductive oxide (TCO) films are a vital part of a large part of modern technology. The production of TCO materials has sparked much development in plasma coating technology. Quality control measurements of these layers are therefore important in many fields of optics and electronics such as high efficiency thin film photovoltaics. In this presentation, we report on optical measurements of ZnSnOx layers generated by DC/RF magnetron plasma co-sputtering. By changing the respective power on two different targets, the overall power, the gas composition and post-treatment, the properties of this type of layers can be varied in a number of parameters. The optical, electrical, and chemical properties of TCO layers are the technically most important properties together with the layer thickness. The dielectric function of layers is accessible by means of spectroscopic ellipsometry, which also yields the very important value for the layer thickness at the same time. It would be a significant step forward in quality control to use this non-destructive method also as a fast test for electrical properties. Therefore, we report on the optical properties connected to the production parameters, and also on our preliminary results connecting the optical dielectric function (in the visible and near infrared) to the electrical conductivity of the layers. We discuss the effect of deposition parameters on the optical properties of the layers and present an approach for correlating optical and electrical properties. Further, we discuss the question of accuracy of optical properties gained from model-fit-based optical methods and the use of different parameterised models for the dielectric function to achieve this. T2 - PSE 2018 - 16th Conference on Plasma Surface Engineering CY - Garmisch-Partenkirchen, Germany DA - 17.09.2018 KW - Mixed Oxides KW - TCO KW - Quality Control KW - Ellipsometry KW - Optical Constants PY - 2018 AN - OPUS4-46388 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Fischer, Daniel A1 - Hertwig, Andreas A1 - Mitzkus, Anja A1 - Sahre, Mario A1 - Weise, Matthias A1 - Köppe, Enrico A1 - Bartholmai, Matthias A1 - Basedau, Frank A1 - Hofmann, Detlef A1 - Schukar, Vivien A1 - Kormunda2, M. T1 - Multi-functional coatings for optical sensor applications: Surface plasmon resonance & magneto-optical coupling N2 - Multi-functional coatings are a key requirement for surface engineering. General demands are adhesion and long-term stability under service conditions. The modification of surfaces by means of PVD-, ECD- or hybrid processes allows an add-on functionalization of surfaces by a huge diversity of materials with both lateral and vertical micro-/nano-designs. This fact is a prerequisite for micro- and sensor-systems in lab-on-chip and sensor-on-chip technology. Two layer-based sensor principles are presented, i.e. surface plasmon resonance enhanced spectroscopic ellipsometry (SPREE) for detection of hazardous gases and magneto-optical sensors on smart-coated fiber Bragg gratings (FBG) for structural health monitoring (SHM). The interdependence of substrate features, coating properties, and layer design is discussed firstly for gas sensitivity and selectivity of SPREE-sensors and secondly for sensitivity and selectivity of magneto-strictive coatings to mechanical strain or external magnetic fields resulting in an optical displacement of the Bragg wavelength of FBG-sensors. Moreover, generic features such long-term stability, crucial process-related fabrication conditions, and effects of operational and environmental parameters are discussed with respect to the sensor performance. It has been shown that appropriate layer design and adapted selection of layer materials (SnOx/Au, Fe/Ni:SnOx/Au; Ni/NiFe-Cu-Cr) result in improved sensor parameters and may enable new sensor applications. T2 - SVC TechCon 2018 CY - Orlando, FL, USA DA - 05.05.2018 KW - Multi-functional coatings for sensors KW - Surface plasmon resonance enhanced ellipsometry (SPREE) KW - Gas monitoring KW - Magneto-optical coupling (MOC) KW - Structural health monitoring (SHM) PY - 2018 AN - OPUS4-44976 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas A1 - Othake, N. A1 - Hiratsuka, M. T1 - Ellipsometrische Klassifizierung von Kohlenstoffschichten N2 - Der Vortrag widmet sich der „ELLIPSOMETRISCHE KLASSIFIZIERUNG VON KOHLENSTOFFSCHICHTEN“ und beschreibt die Punkte: 1. Anwendungen Kohlenstoffschichten–Carbon–based films (DLC) aus dem Vortrag N. Ohtakeet. al. (ISO TC 107, Tokyo 2017),2. Präparation der Kohlenstoffschichten für ISO TC 107 Ringversuch aus Vortrag M. Hiratsuka et. al. (ISO TC 107, Tokyo 2017), 3. Ellipsometrische Charakterisierung von Kohlenstoffschichten, Ergebnisse des Ringversuchs (ISO TC 107, Tokyo 2017) Vortrag Beck et. al. und 4.Deutsche Normungsaktivitäten national/international zur Ellipsometrie DIN NA 062-01-061 (DIN 50989-1)/TC 107 (PWI DE)“ im Einzelnen. T2 - Netzwerksymposium “schützen und Veredeln von Oberflächen”, Wildau CY - TH Wildau, Germany DA - 01.03.2018 KW - Anwendung von Kohlenstoffschichten KW - Klassifizierung von Kohlenstoffschichten KW - Ringversuch Ellipsometrie KW - Normung Ellipsometrie PY - 2018 AN - OPUS4-44340 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Fischer, Daniel A1 - Hertwig, Andreas A1 - Hidde, Gundula A1 - Stockmann, Jörg M. A1 - Weise, Matthias T1 - Ellipsometric imaging of low-contrast surface modifications and depolarization contrast imaging (DCI) of particulate accumulations N2 - Imaging of surfaces regarding topographical, morphological, micro-structural, and chemical features is a key requirement for quality control for the identification of contaminated, degraded, damaged or deliberately modified surface areas vs. clean, virgin, undamaged or unmodified regions. As optical functions may represent any of these changes on the micro- and nano-scale, imaging ellipsometry (IE) is the technique of choice using either intensity, phase, or/and amplitude contrast for visualization of low-contrast surface modifications [1, 2]. Defects or surface and film features whether native or artificial, intended or unintended, avoidable or unavoidable as well as surface pattern are of interest for quality control. In contrast to microscopic techniques operated at normal incidence, ellipsometry as oblique-incidence technique provides improved contrast for vertically nano-scaled add-on or sub-off features such as ultra-thin transparent films, metallic island films, carbon-based thin films, laser modification or laser induced damage, dried stain, cleaning agent or polymeric residue. Two-sample reference techniques, i.e. referenced spectroscopic ellipsometry (RSE) may further increase sensitivity and decrease measurement time. In case of particulate accumulations depolarization contrast imaging (DCI) may improve the lateral resolution beyond the Abbe limit. This has been proven for silica spheres as reference in terms of single particles, particulate accumulations or particulate monolayers and layer stacks. Scanning electron microscopy (SEM) and atomic force microscopy (AFM) were used for reference measurements of particle diameter, particle height, or particulate layer/accumulation thickness. It has been shown that single silica particles of 250 nm in diameter, i.e. at least a factor of 4 better than the lateral resolution limit as of now, can be visualized on even substrates. However, the ellipsometric measurement of particle diameters of this size needs further efforts interpretation. T2 - Workshop Ellipsometry 2018 CY - Chemnitz, Germaný DA - 19.03.2018 KW - Low-contrast surface modifications KW - Particulate distributions KW - Imaging ellipsometry(IE) KW - Depolarization contrast imaging (DCI) PY - 2018 AN - OPUS4-44548 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas A1 - Winkler, J. T1 - Preliminary work item (PWI) 23131 on standardization of ellipsometry N2 - The paper addresses the PRELIMINARY WORK ITEM (PWI) 23131 ON STANDARDIZATION OF ELLIPSOMETRY and the following points are discussed in more detail: Historical background of ellipsometry, Technical/industrial importance of ellipsometry and Standardization activities on ellipsometry. T2 - ISO TC 107 and JWG 4 meeting CY - Levi, Finland DA - 23.01.2018 KW - Standardization KW - Ellipsometrie KW - Modelling KW - Accreditation PY - 2018 AN - OPUS4-43959 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Fischer, Daniel T1 - Abschlusspräsentation zum Unterauftrag des BMWi Projekts ARGUS N2 - Im Rahmen eines BMWi Projekts der Fa. Innovent Jena, bei dem ein neuartiger optischer Sensor zur Bewertung der Oberflächenqualität und Reinheit von optischen Gläsern im Fokus stand, wurden die abbildende Ellipsometrie, die IR-Mikroskopie und die Weißlichtinterferenzmikroskopie als Referenzverfahren herangezogen. Mittels Brewster-Winkelmessungen konnten „Wolkenstrukturen“ identifiziert werden, die bei nachfolgenden Beschichtungsprozessen zu Schichtdefekten führen können. Außerdem wurden mittels Ellipsometrie Änderungen im Brechungsindex der Floatgläser (Luft- bzw. Zinnseite) nachgewiesen. Topographie Oberflächenmerkmale wie Welligkeit, Rauheit und Kreuzrillen konnten mittels Weißlichtinterferenzmikroskopie bzw. abbildender Ellipsometrie identifiziert werden. T2 - Projektverteidigung: Abschlusspräsentation zum Unterauftrag ARGUS, 14.12.2017, Jena, Innovent CY - Jena, Germany DA - 14.12.2017 KW - Glasoberflächen KW - Imaging Ellipsometrie KW - Verunreinigungen KW - Fehlstellen KW - Weißlichtinterferenzmikroskopie KW - Topographie PY - 2017 AN - OPUS4-50439 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Griepentrog, Michael A1 - Reiners, G. T1 - Kratzbeständigkeit – Prüfmethoden und deren Praxistauglichkeit N2 - Der Vortrag widmet sich modifizierten Oberflächen zur Erhöhung der Kratzbeständigkeit sowie entspre-chenden Prüfmethoden und bewertet deren Praxis-tauglichkeit. Nach einer Übersicht zu Begriffen und Definitionen wird die wirtschaftliche Bedeutung der Kratzbeständigkeit aufgezeigt. Neben generellen Anforderungen an Mess-und Prüfverfahren hinsicht-lich Einsatzbereichen, Messunsicherheit und Validie-rung werden diverse Verfahren zur Erzeugung und Bewertung Einzel- und Vielfach-Kratzern nebst ent-sprechenden Normen vorgestellt. Die analytische Charakterisierung, werkstofftechnische Gesichts-punkte und eine Zusammenstellung aktuell gültiger Normen zur Kratzbeständigkeit schließen den Vortrag ab. T2 - Seminar: Modifikation der Kratz- und Abriebsbeständigkeit von Kunststoffen CY - SKZ – KFE GmbH Peine, Germany DA - 09.05.2017 KW - Kunststoff-Oberflächen KW - Kratzbeständigkeit KW - Härte KW - Abrieb KW - Prüfverfahren KW - Normung PY - 2017 AN - OPUS4-40258 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Baier, Jennifa A1 - Lange, Thorid A1 - Hidde, Gundula A1 - Gargouri, H. A1 - Kärkkänen, I. A1 - Naumann, F. T1 - ALD-Haftvermittler zur Erhöhung der Haft- bzw. Klebfestigkeit N2 - Zur Erhöhung der Haft- und Klebfestigkeit von Niedrigenergie-Polymeren wie PTFE, PP und PE werden plasmabasierte Aktivierungen (Realisierung von dangling bonds) und Modifizierungen (Realisierung von functional groups) verwendet. Die Effizienz dieser Modifizierungen liegt für technisch raue Oberflächen bei ca. 10%, d. h. nur jedes zehnte C-Atom wird aktiviert oder modifi-ziert, weil sowohl LP- (Low Pressure) als auch AP- (Atmospheric Pressure) Plasmen nicht topo-graphietreu wirksam werden. Zudem ist die Lebensdauer der Aktivierung bzw. Modifizierung oft sehr kurz, liegt im Bereich von wenigen Minuten bis zu mehreren Stunden, d.h. zeitnahe Beschich-tung oder Verklebung in Prozessfolge sind unabdingbar. Im Projekt „HARFE - Haftung, Reproduzierbarkeit, Festigkeit“ soll untersucht werden, in wie weit diese Defizite mittels Atomlagenabscheidung (ALD: Atomic Layer Deposition) vorbeschichteten Polymeren minimiert werden können. ALD-Prozesse sind zum einen topographietreu, zum anderen sowohl ohne als auch mit Plasmaunterstützung realisierbar. T2 - 12. Thementage Grenz- und Oberflächentechnik (ThGOT) und das 5. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik CY - Zeulenroda, Gemany DA - 14.03.2017 KW - ALD-Prozess KW - ALD Haftvermittler KW - Haftfestigkeit KW - Klebefestigkeit KW - Verbundfestigkeit KW - Zentrifugentechologie KW - Mehrprobenprüfung PY - 2017 AN - OPUS4-41352 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Griepentrog, Michael A1 - Hertwig, Andreas A1 - Hielscher, Stefan A1 - Weise, Matthias T1 - Messunsicherheiten in Messungen und Oberflächencharakterisation: Ellipsometrie, Härte und Haftprüfung N2 - Die Angabe der Messunsicherheit wird im Rahmen von Konformitätsbewertungen gefordert. Die Messunsicherheit gibt an, wie sicher der wahre Wert der Messgröße getroffen wird. Für ihre Ermittlung gibt es unterschiedliche Ansätze, allen voran der „Guide to the Expression of Uncertainty in Measurement“ (GUM). In der geplanten Auditoren- und Bewerterschulung sollen in einem Übersichtsvortrag "Uncertainty Budgets in Measurement and Testing for Surface Characterization: Ellipsometry, Hardness and Adhesion Testing" Herangehensweisen und Methoden zur Ermittlung der Messunsicherheit vorgestellt und anschließend anhand beispielhafter Anwendungen aus den Arbeitsbereichen der BAM erklärend untersetzt werden. Mit dieser Schulung sollen die Auditoren und Bewerter der BAM befähigt werden, geltende Anforderungen zur Messunsicherheit handhaben und beurteilen zu können. T2 - Auditoren- und Bewerterschulung CY - BAM, Berlin, Germany DA - 05.04.2017 KW - GUM KW - Messunsicherheit KW - Oberflächencharakterisierung KW - Ellipsometrie, Härte,und Haftung KW - Härte KW - Haftung PY - 2017 AN - OPUS4-39767 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -