TY - CONF A1 - Weise, Matthias A1 - Hertwig, Andreas A1 - Beck, Uwe T1 - Scanning White Light Interference Microscopy - Measurement of Topometry and Layer Thickness N2 - 3D coherence scanning interferometry (CSI) is anoptical, non-contact and rapide measurement technique using a defined bandwidth of white light at normal incidence. White light interference microscopy (WLIM) providest here-dimensional surface topometry data up to a resolution of 0.4 µm lateral and 0.1 nm vertical. Three operating modi, surface, films and advanced films, enable measurements of step heights, roughness, wear volume, cone angle, surface pattern and layer thickness. Traceability to SI system is ensured by certified standards (PTB/NIST) within a DAkkS DIN EN ISO/IEC 17025:2018 accredited lab. T2 - EFDS, V2019, Vakuum und Plasma, WS 4, Beschichtungen für Werkzeuge & Bauteile CY - Dresden, Germany DA - 08.10.2019 KW - DIN EN ISO/IEC 17025:2018 KW - Certified standards KW - White light interference microscopy(WLIM) KW - 3D coherence scanning interferometry (CSI) KW - Topometry PY - 2019 AN - OPUS4-49323 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Schönhals, Andreas A1 - Madkour, Sherif A1 - Gawek, Marcel A1 - Szymoniak, Paulina A1 - Hertwig, Andreas T1 - Growth Kinetics and molecular mobility of irreversibly adsorbed layers in thin Polymer films investigated by Nanosized relaxation spectroscopy and complimentary methods N2 - In well-annealed thin polymer films, with non-repulsive polymer/substrate interactions, an irreversibly adsorbed layer is expected to from. These adsorbed layers have shown greate potential for technological applications. However, their growth kinetics and molecular dynamics are still not fully understood. This is partly due to the hard accessibility of these layers in thin films. Here, the irreversibly adsorbed layers of homopolymer thin films are revealed by solvent-leaching experiments. First, the growth kinetics of these layers is investigated as a function of annealing time, annealing temperature, leaching time and the original filme thickness. The film thickness, topography and the quality of the adsorbed layer is controlled by Atomic Force Microscopy (AFM). Secondly, the molecular mobility of the adsorbed layer is investigated by Broadband Dielectric Spectroscopy (BDS). A recently developed nanostructured capacitor arrangement is employed to measure the layer with a free surface. The results are quantitatively compared and discussed with respect to recently published work. T2 - Polymers on the nanoscale CY - Princeton, New Jersey, USA DA - 31.10.2019 KW - Thin polymer films PY - 2019 AN - OPUS4-49559 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Sachse, René A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan A1 - Hertwig, Andreas A1 - Kotil, L. A1 - Kraehnert, R. T1 - Analysis of elemental composition and porosity of mesoporous iridium titanium mixed oxide thin films for energy application by SEM/EDS JF - Microscopy and Microanalysis N2 - Porous materials play an important role in several fields of technology, especially for energy applications like photovoltaics, electrolysis or batteries. The activity of porous films is affected by properties like porosity, film thickness, chemical composition of the material as well as the crystallinity of the framework. The complex morphology of such porous films constitutes a challenge even for modern analytical techniques and requires new approaches employing the combination/complementation of data of different analytical methods. In this contribution we characterize thin mesoporous iridium-titanium mixed oxide film properties by Electron Probe Microanalysis (EPMA) with energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) at an SEM. KW - Electron probe microanalysis (EPMA) KW - Iridium-titanium mixed oxides KW - Spectroscopic ellipsometry KW - Mesoporous thin films KW - NanoSIMS PY - 2019 DO - https://doi.org/10.1017/S1431927619009589 SN - 1431-9276 (Print) SN - 1435-8115 (Online) VL - 25 IS - S2 (August) SP - 1770 EP - 1771 PB - Cambridge University Press CY - New York, NY, U.S.A. AN - OPUS4-48768 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Sachse, René A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan A1 - Hertwig, Andreas A1 - Matjacic, L. A1 - McMahon, G. A1 - Kotil, L. A1 - Bernsmeier, D. A1 - Kraehnert, R. T1 - Analysis of elemental composition and porosity of mesoporous iridium titanium mixed oxide thin films for energy application by SEM/EDS N2 - Porous materials play an important role in several fields of technology, especially for energy applications like photovoltaics, electrolysis or batteries. The activity of porous films is affected by properties like porosity, film thickness, chemical composition of the material as well as the crystallinity of the framework. The complex morphology of such porous films constitutes a challenge even for modern analytical techniques and requires new approaches employing the combination/complementation of data of different analytical methods. In this contribution we characterize thin mesoporous iridium-titanium mixed oxide film properties by Electron Probe Microanalysis (EPMA) with energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) at an SEM. T2 - Microscopy & Microanalysis 2019 Meeting CY - Portland, OR, USA DA - 04.08.2019 KW - Mesoporous mixed metal oxide films KW - SEM/EDS/STRATAGem KW - EPMA KW - Ellipsometry KW - NanoSIMS PY - 2019 AN - OPUS4-48767 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Sachse, René A1 - Hertwig, Andreas A1 - Kraehnert, R. A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan T1 - Analysis of elemental composition and porosity of mesoporous IrOx-TiOx thin films by SEM/EDS N2 - Porous materials play an important role in several fields of technology, especially for energy applications like photovoltaics, electrolysis or batteries. The activity of porous films is affected by properties like porosity, film thickness, chemical composition of the material as well as the crystallinity of the framework. The complex morphology of such porous films constitutes a challenge even for modern analytical techniques and requires new approaches employing the combination/complementation of data of different analytical methods. In this contribution we characterize thin mesoporous iridium-titanium mixed oxide film properties by Electron Probe Microanalysis (EPMA) with energy dispersive X-ray spectroscopy (EDS) at an SEM. T2 - EMAS 2019 - 16th European Workshop on MODERN DEVELOPMENTS AND APPLICATIONS IN MICROBEAM ANALYSIS CY - Trondheim, Norway DA - 19.05.2019 KW - Electron probe microanalysis (EPMA) KW - Iridium-titanium mixed oxides KW - Spectroscopic ellipsometry KW - Mesoporous thin films PY - 2019 AN - OPUS4-48769 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Sachse, René A1 - Kotil, L. A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan A1 - Bernsmeier, Denis A1 - Kraehnert, R. A1 - Hertwig, Andreas T1 - Spectroscopic ellipsometric analysis of elemental composition and porosity of mesoporous iridium-titanium mixed oxide thin films for electrocatalytic splitting of water N2 - Porous materials play an important role in several fields of technology, especially for energy applications like photovoltaics, electrolysis or batteries. The activity of porous films is affected by properties like porosity, film thickness, chemical composition of the material as well as the crystallinity of the framework. The complex morphology of such porous films constitutes a challenge for modern analytical techniques and requires approaches employing the combination/complementation of data of different analytical methods. In this contribution we characterize thin mesoporous iridium-titanium mixed oxide film properties by spectroscopic ellipsometry (SE). Mesoporous iridium oxide - titanium oxide (IrOx-TiOx) films were prepared via dip-coating of a solution containing a triblock-copolymer as structure-directing agent, an iridium precursor as well as a titanium precursor in ethanol. Deposited films with different amounts of iridium (0 wt%Ir to 100 wt%Ir) were synthesized and calcined in air. The thin films were analyzed with SE using the Bruggeman effective medium approximation (BEMA) for modelling. The results were compared with electron probe microanalysis (EPMA) as part of a combined SEM/EDS/STRATAGem Analysis. T2 - 8th International conference on spectroscopic ellipsometry (ICSE-8) CY - Barcelona, Spain DA - 26.05.2019 KW - Mesoporous iridium-titanium mixed oxides KW - Thin films KW - Spectroscopic ellipsometry KW - Oxygen evolution reaction KW - EPMA KW - Ellipsometric porosimetry PY - 2019 AN - OPUS4-48387 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Rietz, U. A1 - Küchler, S. A1 - Lerche, D. A1 - Lange, Thorid A1 - Hielscher, Stefan A1 - Beck, Uwe T1 - Zentrifugalkraftbasierte Mehrprobenprüfung in einer analytischen Zentrifuge zur Bestimmung von Kleb- und Haftfestigkeiten: Metallische Referenzverbunde, Plasmaaktivierung von Polymeren, Schichthaftung auf GFK, Wirkung von Primern T2 - Atmosphärische Plasmen, Anwendungen - Entwicklungen - Anlagen N2 - Das Fügeverfahren Kleben bietet viele Vorteile wie z.B. das Verbinden schwieriger Materialklassen, geringe thermische Belastung (Strukturveränderung/-schwächung) der Fügepartner und eine Lastverteilung über den gesamten Fügebereich. Die Auswahl an verfügbaren Klebstoffen und Vorbehandlungsoptionen ist dabei ebenfalls vielfältig. Einige Polymere weisen darüber hinaus Eigenschaften auf, die eine Herstellung von festen und dauerhaft beanspruchbaren Klebverbindungen erschweren. Mittels Oberflächenbehandlung, z.B. durch Plasmafeinreinigung bzw. –aktivierung, können die Grenzflächern solcher Polymere - bezogen auf die Eignung als Fügeteilpartner – optimiert werden. Schnelle Prüfverfahren zur Ermittlung von Verbundeigenschaften sind somit erforderlich. Das Messprinzip Centrifugal Adhesion Testing Technologie verwendet die radial gerichtete Zentrifugalkraft als Belastungsgröße des zu testenden Verbunds, die durch Variation der Drehzahl gesteuert wird. Bei Erreichen der kritischen Beanspruchung trennt sich ein aufgeklebter Prüfstempel vom Substrat. Zeitgleich wird ein positionsbezogenes IR-Signal aus dem drehenden Rotor an das Basisgerät gesendet und zusammen mit der Drehzahl an die PC-Software übertragen. Für jede Probe wird die Bruchkraft berechnet und in Echtzeit angezeigt. Der Adhesion Analyser LUMiFrac® untersucht bis zu acht Prüfkörper unter identischen Bedingungen. Das neue Messprinzip erfüllt die Anforderungen von DIN EN 15870, DIN EN 14869-2, ISO 4624 sowie DIN EN 13144. Die Multiprobentestung ermöglicht schnelle Charakterisierungen von Klebverbindungen. So kann der Effekt einer Plasmabehandlung von Bauteilen auf die Verbundfestigkeit zeitsparend bestimmt werden. Die gezielte Veränderung unterschiedlicher Plasma-Parameter, wie beispielsweise, die Plasmazusammensetzung, der Abstand vom Plasmabrenner zur Oberfläche oder die Verweildauer unter dem Brenner, beeinflußt die Festigkeit des Klebsystems und ist dem LUMiFrac direkt quantifizierbar. Neben der Festigkeitsbestimmung von Klebverbindungen ist die Haftung von Schichtsystemen ein wichtiger Anwendungsbereich. Ergebnisse für Zug- und Scherbeanspruchung, realisiert mit unterschiedlichen Prüfkörper-Geometrien, werden vorgestellt. Ferner werden verschiedene festigkeitsbeeinflussende Faktoren, wie Prüfgeschwindigkeit oder Substratverformung bei Beanspruchung untersucht T2 - 35. Workshop des ak-adp CY - Nuremberg, Germany DA - 20.11.2019 KW - Adhäsion KW - Mehrprobenprüfung KW - Analytische Zentrifuge KW - Kleb- und Haftfestigkeit PY - 2019 SN - 978-3-00-063646-2 SP - 100 EP - 109 AN - OPUS4-50149 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Mitzkus, Anja A1 - Sahre, Mario A1 - Basedau, Frank A1 - Hofman, Detlef A1 - Beck, Uwe T1 - Fiber Bragg Gratings for In-Situ Stress Monitoring of Electrochemical Deposition JF - Journal of The Electrochemical Society N2 - The in-situ monitoring of electrochemical deposition (ECD) processes is still a challenge regarding the measurement of the effective temperature of the substrate and the formation of mechanical stress in the layer under given plating conditions. Monitoring problems can be solved by applying a pre-coated fiber Bragg grating (FBG) to the electrolytic process as the shift of the Bragg wavelength is affected by both the temperature of the electrolyte near the substrate and the stress formation in the growing layer. The experimental FBG set-up and the quantitative determination of temperature- and stress-related strain is described for a nickel-iron electrolyte. KW - Fiber Bragg grating (FBG) KW - Electrochemical deposition (ECD) KW - Optical fibers PY - 2019 DO - https://doi.org/10.1149/2.0111906jes SN - 0013-4651 VL - 166 IS - 6 SP - B312 EP - B315 PB - Electrochemical Society CY - Pennington, NJ AN - OPUS4-47738 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Lange, Thorid A1 - Hidde, Gundula A1 - Beck, Uwe A1 - Naumann, F. A1 - Kärkkänen, I. A1 - Gargouri, H. T1 - Nanoskalige Haftvermittler zur Erhöhung der Haft- bzw. Klebfestigkeit unter Verwendung von ALD-Hybridprozessen T2 - 14. ThGOT ThementageTagungsband Grenz- und Oberflächentechnik und 6. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik N2 - Ziel des Projektes HARFE (Haftfestigkeit Reproduzierbarkeit Festigkeit) war es, eine Er-höhung der Haft- bzw. Klebfestigkeit auf Niedrigenergie-Polymeren (PE, PP, PTFE) zu erreichen. SENTECH realisierte dazu plasmachemische Oberflächenaktivierungen mit O2 und die Abscheidung von Aluminiumoxidschichten (Al2O3) mittels Atomic Layer Deposition (ALD), wobei die Ellipsometrie zum in-situ Monitoring der ALD-Prozesse diente. Die BAM charakterisierte die modifizierten Oberflächen bezüglich der Oberflächenenergie (OFE) und bestimmte die Verbund- bzw. Klebfestigkeit mittels der Zentrifugentechnologie T2 - 14. ThGOT Thementage Grenz- und Oberflächentechnik und 6. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik CY - Zeulenroda, Germany DA - 12.03.2019 KW - Haftvermittler KW - ALD-Hybridprozesse KW - Klebfestigkeit KW - Atomic Layer Deposition KW - Al2O3-Schichten KW - Oberflächenenergie PY - 2019 SN - 978-3-00-062102-4 SP - 1 EP - 2 CY - Zeulenroda, Germany AN - OPUS4-47656 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Lange, Thorid A1 - Hidde, Gundula A1 - Beck, Uwe A1 - Naumann, F. A1 - Kärkkänen, I. A1 - Gargouri, H. T1 - Nanoskalige Haftvermittler zur Erhöhung der Haft- bzw. Klebfestigkeit unter Verwendung von ALD-Hybridprozessen N2 - Ziel des Projektes HARFE (Haftfestigkeit Reproduzierbarkeit Festigkeit) war es, eine Er-höhung der Haft- bzw. Klebfestigkeit auf Niedrigenergie-Polymeren (PE, PP, PTFE) zu erreichen. SENTECH realisierte dazu plasmachemische Oberflächenaktivierungen mit O2 und die Abscheidung von Aluminiumoxidschichten (Al2O3) mittels Atomic Layer Deposition (ALD), wobei die Ellipsometrie zum in-situ Monitoring der ALD-Prozesse diente. Die BAM charakterisierte die modifizierten Oberflächen bezüglich der Oberflächenenergie (OFE) und bestimmte die Verbund- bzw. Klebfestigkeit mittels der Zentrifugentechnologie T2 - 14. ThGOT Thementage Grenz- und Oberflächentechnik und 6. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik CY - Zeulenroda, Germany DA - 12.03.2019 KW - Haftvermittler KW - ALD-Hybridprozesse KW - Klebfestigkeit KW - Atomic Layer Deposition KW - Al2O3-Schichten KW - Oberflächenenergie PY - 2019 AN - OPUS4-47653 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -