TY - GEN A1 - Neuschaefer-Rube, U. A1 - Becke, C. A1 - Sadowski, E. A1 - Tan, Ö. A1 - Staude, Andreas A1 - Zimmermann, J. ED - Weckenmann, A. T1 - Virtuelle Messgeräte und Simulationen im Mikrobereich - Potential und Grenzen T2 - Abschlusskolloquium DFG Schwerpunktprogramm 1159 - Neue Strategien der Mess- und Prüftechnik für die Produktion von Mikrosystemen und Nanostrukturen CY - Erlangen, Deutschland DA - 2010-10-06 PY - 2011 SN - 978-3-8440-0358-1 SN - 0945-0769 SP - 206 EP - 218 PB - Shaker Verlag GmbH AN - OPUS4-24877 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Herffurth, T. A1 - Schröder, S. A1 - Tan, Ö. A1 - Apel, S. A1 - Senoner, Mathias A1 - Sahre, Mario ED - Weckenmann, A. T1 - Rauheitsbewertung beschichteter Oberflächen T2 - Abschlusskolloquium DFG Schwerpunktprogramm 1159 - Neue Strategien der Mess- und Prüftechnik für die Produktion von Mikrosystemen und Nanostrukturen CY - Erlangen, Germany DA - 2010-10-06 KW - AFM-Spitzencharakterisierer KW - Nanotopographie KW - Rasterkraftmikroskopie KW - Rauheit KW - Weißlichtinterferometrie PY - 2011 SN - 978-3-8440-0358-1 SN - 0945-0769 SP - 219 EP - 231 PB - Shaker Verlag GmbH AN - OPUS4-24789 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -