TY - JOUR A1 - Procop, Mathias T1 - Abschätzung der Dicke absorbierender Schichten eines EDX-Detektorsystems mit Hilfe von Bremsstrahlungsspektren T2 - 29. Kolloquium des Arbeitskreises für Elektronenmikroskopische Direktabbildung und Analyse von Oberflächen (EDO) CY - Münster, Deutschland DA - 1996-10-08 KW - Oberflächenanalyse KW - Schichtdickenmessung KW - EDX-Detektor KW - Bremsstrahlungspektrum KW - X-ray spectrometry KW - X-ray detector KW - Si(Li) detector PY - 1996 SN - 0340-3815 VL - 29 SP - 47 EP - 50 PB - Ehrenwerth CY - Münster, Westf. AN - OPUS4-641 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Höpner, A. A1 - Seitz, H. A1 - Rechenberg, I. A1 - Bugge, C. A1 - Procop, Mathias A1 - Scheerschmidt, E. A1 - Queisser, A. T1 - TEM Characterization of the Interface Quality of MOVPE Grown Strained InGaAs/GaAs Heterostructures KW - TEM KW - Laser PY - 1995 SN - 1862-6300 SN - 0031-8965 VL - 150 IS - 427 SP - 427 EP - 437 PB - Wiley-VCH CY - Berlin AN - OPUS4-598 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Procop, Mathias ED - Hunger, H.-J. T1 - AUGER-Elektronenspektroskopie PY - 1995 SN - 3-342-00430-4 SP - 382 EP - 408 PB - Dt. Verl. für Grundstoffindustrie CY - Leipzig AN - OPUS4-605 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Procop, Mathias T1 - A Simple Procedure to Check the Spectral Response of an EDX Detector KW - Röntgenspektrokopie KW - Spekralanalyse KW - Detektor PY - 1996 SN - 0076-8642 VL - 13 SP - 473 EP - 477 PB - Springer CY - Wien AN - OPUS4-617 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Procop, Mathias A1 - Scholze, F. T1 - Synchrotron Radiation for the Characterization of Energy Dispersive X-ray Spectrometers KW - Röntgenspektroskopie KW - Detektoren KW - Elektronenstrahl-Mikroanalyse KW - ESMA KW - EPMA KW - Röntgenfluoreszenzanalyse KW - RFA KW - XRF PY - 2004 DO - https://doi.org/10.1017/S1431927604880152 SN - 1431-9276 SN - 1435-8115 VL - 10 IS - 2 SP - 98 EP - 99 PB - Cambridge University Press CY - New York, NY AN - OPUS4-3720 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Procop, Mathias T1 - Instrumental Specification for Semiconductor X-ray Detectors and their check in an Analytical Laboratory PY - 1999 VL - 20 IS - 1 SP - 96 EP - 103 PB - Società Italiana di Microscopia Elettronica CY - Modena AN - OPUS4-835 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Procop, Mathias T1 - Estimation of Absorbing Layer Thickness for an Si(Li) Detector PY - 1999 SN - 0049-8246 IS - 28 SP - 33 EP - 40 PB - Wiley CY - Chichester AN - OPUS4-824 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Sümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - About the calibration of thickness standards on the nanometer scale T2 - 3rd International EUSPEN conference ; 3rd International conference. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology ; 4th General meeting. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology CY - Eindhoven, The Netherlands DA - 2002-05-26 PY - 2002 SN - 90-386-2883-8 SP - 1 EP - 5 CY - Eindhoven AN - OPUS4-2283 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Hasche, K. A1 - Herrmann, K. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Ade, G. A1 - Pohlenz, F. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Schindler, A. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche N2 - Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium. Technische Universität Ilmenau ; Herbstkonferenz der Gesellschaft für Arbeitswissenschaft ; 6. Workshop Multimedia für Bildung und Wirtschaft CY - Ilmenau, Deutschland DA - 2002-09-23 PY - 2002 UR - http://publica.fraunhofer.de/documents/N-14872.html VL - 47 SP - 568 EP - 569 PB - Techn. Univ. CY - Ilmenau AN - OPUS4-2284 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Koenders, L. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Beck, Uwe A1 - Procop, Mathias T1 - Über die metrologische Charakterisierung von Schichtdicken Standards im Nanometerbereich T2 - 12th Applied Surface Analysis Workshop ; AOFA 12 CY - --- DA - 2002-09-15 PY - 2002 AN - OPUS4-2285 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Sümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. T1 - About the calibration of thickness standards on the nanometer scale T2 - EUSPEN 2002 CY - Eindhoven, Netherlands DA - 2002-05-26 PY - 2002 AN - OPUS4-3259 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Procop, Mathias T1 - Abschätzung der Dicke absorbierender Schichten eines EDX-Detektorsystems mit Hilfe von Bremsstrahlungsspektren T2 - 29. Kolloquium des Arbeitskreises für Elektronenmikroskopische Direktabbildung und Analyse von Oberflächen (EDO) CY - Münster, Germany DA - 1996-10-08 PY - 1996 AN - OPUS4-3260 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Procop, Mathias A1 - Scholze, F. T1 - Measurement of detection efficiency and response functions for an Si(Li) x-ray spectrometer in the range 0.1-5 keV N2 - Efficiency and response functions were determined for a modern commercial energy-dispersive x-ray spectrometer in the photon energy range 0.1-5 keV using dispersed and undispersed synchrotron radiation. The spectrometer was equipped with an Si(Li) detector crystal, a thin-film window and a digital pulse processor. Monochromatized synchrotron radiation from the PTB VUV radiometry beamline at the electron storage ring BESSY was used for the absolute determination of the detection efficiency with a typical relative uncertainty of 1-2% in the photon energy range 0.1-1.5 keV by direct comparison with calibrated photodiodes. At higher photon energies, the efficiency was found by comparison of the measured and calculated undispersed synchrotron radiation spectrum. The absolute intensity of the synchrotron radiation was known with a relative uncertainty of less than 1%. In the overlapping region, the results from the two independent experiments are in full agreement. The energy dependence of the measured efficiency can be explained only with a detector model assuming that there is no dead layer. A simple model for the effect of incomplete charge collection (ICC) was applied to describe the measured response functions. Consequences of the ICC such as broadening and shift of low-energy peaks and redistribution of counts around 1.84 keV are explained with the model, in accordance with the experimental results. PY - 2001 DO - https://doi.org/10.1002/xrs.472 SN - 0049-8246 VL - 30 IS - 2 SP - 69 EP - 76 PB - Wiley CY - Chichester AN - OPUS4-1120 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Realisation and metrological characterisation of thickness standards below 100 nm T2 - DVG Jahrestagung 2002 CY - Magdeburg, Germany DA - 2002-06-17 PY - 2002 SP - 1 EP - 9 PB - Deutsche Vakuum-Gesellschaft CY - Kaiserslautern AN - OPUS4-1936 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe A1 - Hasche, K. A1 - Herrmann, K. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Pohlenz, F. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Schindler, A. T1 - Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche T2 - Maschinenbau und Nanotechnik: 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium der TU Ilmenau CY - Ilmenau, Germany DA - 2002-09-23 PY - 2002 AN - OPUS4-3620 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Scholze, F. A1 - Procop, Mathias T1 - High-accuracy calibration of energy-dispersive detectors using undispersed and monochromatized radiation PY - 2004 UR - http://www.helmholtz-berlin.de/media/media/oea/web/pr_webseite/druckschriften/berichte/bessy/annualreport2003.pdf#page=14 SN - 0179-4159 SP - 14 EP - 16 PB - Berliner Elektronenspeicherring-Gesellschaft für Synchrotronstrahlung CY - Berlin AN - OPUS4-4188 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe A1 - Hirsch, D. A1 - Frank, W. A1 - Schindler, A. A1 - Schädlich, S. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Stümpel, J. A1 - Ade, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Koenders, L. A1 - Ulm, G. A1 - Hasche, K. T1 - Film thickness standards for X-ray techniques and ellipsometry T2 - Workshop Metrology CY - Plzen, Czech Republic DA - 2002-10-20 PY - 2002 AN - OPUS4-4322 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Procop, Mathias A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan A1 - Bjeoumikhov, A. A1 - Arkadiev, V. T1 - Calculation of X-Ray spectra emitted from a microfocus X-Ray tube with X-Ray optics T2 - European Conference on X-Ray Spectrometry (EXRS 2006) CY - Paris, France DA - 2006-06-19 PY - 2006 AN - OPUS4-12470 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Procop, Mathias T1 - EDXTOOLS - ein Programmpaket in MATLAB zur Berechnung von Röntgenspektren und Spektrometereigenschaften T2 - Forschungsseminar "Ausgewählte analytische Methoden der Physik" am Institut für Atomphysik der Technischen Universität Berlin CY - Berlin, Germany DA - 2006-05-30 PY - 2006 AN - OPUS4-12413 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Procop, Mathias T1 - Wie genau ist standardlose Elektronenstrahl-Mikroanalyse? T2 - Kolloquium "Ausgewählte analytische Methoden der Physik" - TU-Berlin, Institut für Atomare Physik und Fachdidaktik CY - Berlin, Germany DA - 2002-10-29 PY - 2002 AN - OPUS4-6248 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -