TY - GEN A1 - Beck, M. A1 - Becker, S. A1 - Beckmann, Jörg A1 - Cojocari, O. A1 - Feige, V. A1 - Fischer, B. A1 - Friederich, F. A1 - Globisch, B. A1 - Haupt, H. A1 - Hechtfischer, G. A1 - Hens, K. A1 - Hübers, H.-W. A1 - Jelonnek, J. A1 - Jonuscheit, J. A1 - Keil, A. A1 - Kleine-Ostmann, T. A1 - Nickel, H.-U. A1 - Peichl, M. A1 - Peters, O. A1 - Sprenger, T. A1 - Steiger, A. A1 - van Frank, S. A1 - Vieweg, N. A1 - Werner, M. A1 - Wilk, R. T1 - Terahertzsysteme - Anwendungsfelder und Systeme N2 - Die nicht ionisierende elektromagnetische Strahlung im Bereich von Terahertz-Frequenzen ermöglicht berührungslose und zerstörungsfreie Mess- und Prüftechnik in zahlreichen Bereichen. Nach ersten Anwendungen in der Astronomie und der Atmosphärenforschung wurden in letzter Zeit Anwendungsfelder in der Sicherheitstechnik, der Medizintechnik, der Nachrichtentechnik und der zerstörungsfreien Prozess- und Qualitätskontrolle erschlossen. Dielektrische Materialien wie Kunststoffe und Keramiken können von Terahertz-Wellen durchdrungen werden. Das ermöglicht Untersuchungen des Objektinneren ohne spezielle Schutzmaßnahmen, wie sie z.B. beim Röntgen notwendig sind. Die Richtlinie erleichtert die Verständigung zwischen Nutzern, Herstellern und dem Vertrieb von Terahertz-Systemen. In der Richtlinie werden bekannte Einsatzgebiete sowie die eingesetzten Verfahren und Funktionsprinzipien aufgeführt, um den Leser bei der Auswahlentscheidung zu unterstützen. Nach einer kurzen Einführung in die physikalischen Grundlagen und Hinweisen zur elektromagnetischen Verträglichkeit, zum Strahlenschutz und zur regulierten Frequenzvergabe werden die verschiedenen Geräteklassen von Terahertz-Systemen ausführlich vorgestellt. Die Richtlinie gibt Hinweise zur messtechnischen Charakterisierung von Terahertz-Wellen. Einsatzgebiete von Terahertz-Systemen, wie die zerstörungsfreie Prüfung, die Dicken- und Abstandsmessung, die Tomografie und die chemische Analytik, werden mit ihren spezifischen Eigenschaften im Detail beschrieben. Umfangreiche Literaturverweise vereinfachen eine vertiefte Beschäftigung mit den Themen der Richtlinie. Eine tabellarische Übersicht mit einer Zusammenfassung, welche Terahertz-Systeme für welche Anwendungsfelder eingesetzt werden können, vervollständigt die Richtlinie. KW - Terahertzsysteme KW - THz-Wellen PY - 2018 UR - https://www.vdi.de/5590 VL - VDI/VDE 5590 Blatt 2 SP - 1 EP - 27 PB - VDI-Verlag CY - Düsseldorf ET - Entwurf - November 2018 AN - OPUS4-46727 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Hasche, K. A1 - Herrmann, K. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Ade, G. A1 - Pohlenz, F. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Schindler, A. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche N2 - Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium. Technische Universität Ilmenau ; Herbstkonferenz der Gesellschaft für Arbeitswissenschaft ; 6. Workshop Multimedia für Bildung und Wirtschaft CY - Ilmenau, Deutschland DA - 2002-09-23 PY - 2002 UR - http://publica.fraunhofer.de/documents/N-14872.html VL - 47 SP - 568 EP - 569 PB - Techn. Univ. CY - Ilmenau AN - OPUS4-2284 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Bauer, Oswald A1 - Weerts, J. A1 - Beck, F. T1 - Mechanische Eigenschaften von Elektrolytzinkblechen PY - 1934 IS - 24 SP - 137 EP - 144 PB - Springer CY - Berlin AN - OPUS4-16539 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Bauer, Oswald A1 - Weerts, J. A1 - Beck, F. T1 - Mechanische Eigenschaften von Elektrolytzinkblechen PY - 1933 VL - 12 IS - 43 SP - 615 EP - 619 PB - N.E.M.-Verl. CY - Berlin AN - OPUS4-16540 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Maser, K. A1 - Mohr, U. A1 - Leihkauf, R. A1 - Ecker, Klaus A1 - Beck, Uwe A1 - Grambole, D. A1 - Grötzschel, R. A1 - Herrmann, F. A1 - Krauser, J. A1 - Weidinger, A. T1 - Hydrogen migration in wet-thermally grown silicon dioxide layers due to high dose 15N ion beam irradiation N2 - Three effects have been observed in wet-thermally grown structures under bombardement with energetic 15N ions: (1) Out-diffusion of H from the SiO2/Si system through the surface, (2) Accumulation of H at the SiO2/Si interface, (3) Changes in the optical fingerprint spectra of Ψ and Δ in dependence on λ (wavelength) obtained by ellipsometric measurements. PY - 1999 DO - https://doi.org/10.1016/S0167-9317(99)00356-1 SN - 0167-9317 SN - 1873-5568 VL - 48 IS - 1-4 SP - 139 EP - 142 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-25572 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Chudoba, T. A1 - Schwarzer, N. A1 - Richter, F. A1 - Beck, Uwe T1 - Determination of mechanical film properties of a bilayer system due to elastic indentation measurements with a spherical indenter N2 - A recently developed theoretical model represents the generalization of the indentation of a sphere into an infinite homogeneous halfspace to the problem of a Hertzian load acting on a halfspace covered with one or more films having different elastic properties. The model allows the analytical calculation of the complete elastic stress field and the deformations within the films and the substrate. Some results of the model shall be confirmed by nanoindentation experiments using an UMIS-2000 nanoindenter into Si3N4/SiO2 and SiO2/ Si3N4 double layers on BK7 glass and Si(100) single crystal. The materials used allow accurate measurements due to their homogeneous, amorphous structure as well as low surface and interface roughness. After the determination of the instrument compliance and the real, depth dependent indenter radius the measured load–depth data are compared with calculated results. It is shown that measurement results can be correctly interpreted by the model. The onset of plastic deformation is investigated for the same samples by multiple partial unloading experiments with a 4-µm radius diamond sphere. The critical load at which a first deviation from a wholly elastic response occurs is used for a stress calculation with the model. The mechanical behavior of the different film combinations is interpreted by means of the von Mises comparison stress. The measured results, together with the analytical modeling, allow an optimization of the thickness and modulus of the individual layers to get a maximum mechanical stability. KW - Mechanical properties KW - Depth sensing indendation KW - Young´s modulus KW - Spherical indenter PY - 2000 DO - https://doi.org/10.1016/S0040-6090(00)01365-1 SN - 0040-6090 VL - 377-378 SP - 366 EP - 372 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-25573 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Tränkle, G. A1 - Fabich, F. A1 - Schiller, Wolfgang A1 - Reiners, Georg A1 - Hübert, Thomas A1 - Beck, Uwe T1 - Abschlussbericht zum Vorhaben Aufbau und Inbetriebnahme eines Zentrums für Mikrosystemtechnik (ZEMI) in Berlin-Adlershof PY - 2003 SP - 1 EP - 17 PB - Europäischer Fond für Regionale Entwicklung (EFRE) CY - Berlin AN - OPUS4-25603 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Göbel, E. O. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Herrmann, K. A1 - Koenders, L. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Pohlenz, F. A1 - Xu, M. A1 - Dai, G. A1 - Hoffmann, K.-P. A1 - Busch, I. A1 - Frank, W. A1 - Procop, M. A1 - Beck, Uwe T1 - Kalibrierte Schichtdicken-Maßverkörperungen für Nanometerschichten, Teilvorhaben - Kalibrierung von Schichtdicken-Maßverkörperungen im Nanometerbereich - Abschlussbericht des BMBF Verbundvorhabens 13N7704 - 13N77041 KW - Schichtdicke KW - Nanometerbereich PY - 2003 UR - http://edok01.tib.uni-hannover.de/edoks/e01fb02/373214030.pdf SP - 1 EP - 131 PB - Physikalisch-Technische Bundesanstalt CY - Dresden AN - OPUS4-25428 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Beck, Uwe A1 - Reiners, Georg A1 - Wirth, Thomas A1 - Hoffmann, V. A1 - Präßler, F. T1 - Multilayer reference coatings for depth profile standards N2 - Depth profiles of layer systems consisting of different film materials and having different thicknesses are of great practical importance. Multilayer reference coatings of conducting (Ti/Al) and non-conducting (SiO2/Si3N4) material are analyzed with Auger electron spectroscopy (AES) and glow discharge optical emission spectroscopy (GDOES) depth profiling. Deposition techniques, physical vapor deposition for Ti/Al layers and plasma-enhanced chemical vapor deposition for SiO2/Si3N4 layers, as well as measurement and testing procedures for the determination of layer thickness such as optical and mechanical stylus and spectroscopie ellipsometry are discussed. GDOES depth profiles in direct current (d.c.) and radio frequency (r.f.) mode are related to measurements of crater profiles and compared with line scans and depth profiles performed by AES. It is shown that such multilayer reference systems are appropriate for calibration of depth profiles, i.e. the definition and the evaluation of the depth resolution at the interface, the determination of sputter rates both for d.c.- and r.f.-GDOES and AES, the optimization of the conditions of analysis, and the quantification of analysis itself. KW - Depth profiling KW - Multilayers KW - Glow discharge KW - Auger electron spectroscopy PY - 1996 DO - https://doi.org/10.1016/S0040-6090(96)09083-9 SN - 0040-6090 VL - 290-291 SP - 57 EP - 62 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-25436 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Bauer, Oswald A1 - Beck, F. A1 - Weerts, J. T1 - Die mechanischen Eigenschaften technischer Elektrolytzinkbleche (Original: Metallwirtsch. Bd. 12, S. 615-618, 1933.) PY - 1934 IS - 18 SP - 279 EP - 280 PB - Springer CY - Berlin AN - OPUS4-28209 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Lange, Thorid A1 - Hidde, Gundula A1 - Beck, Uwe A1 - Naumann, F. A1 - Kärkkänen, I. A1 - Gargouri, H. T1 - Nanoskalige Haftvermittler zur Erhöhung der Haft- bzw. Klebfestigkeit unter Verwendung von ALD-Hybridprozessen N2 - Ziel des Projektes HARFE (Haftfestigkeit Reproduzierbarkeit Festigkeit) war es, eine Er-höhung der Haft- bzw. Klebfestigkeit auf Niedrigenergie-Polymeren (PE, PP, PTFE) zu erreichen. SENTECH realisierte dazu plasmachemische Oberflächenaktivierungen mit O2 und die Abscheidung von Aluminiumoxidschichten (Al2O3) mittels Atomic Layer Deposition (ALD), wobei die Ellipsometrie zum in-situ Monitoring der ALD-Prozesse diente. Die BAM charakterisierte die modifizierten Oberflächen bezüglich der Oberflächenenergie (OFE) und bestimmte die Verbund- bzw. Klebfestigkeit mittels der Zentrifugentechnologie T2 - 14. ThGOT Thementage Grenz- und Oberflächentechnik und 6. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik CY - Zeulenroda, Germany DA - 12.03.2019 KW - Haftvermittler KW - ALD-Hybridprozesse KW - Klebfestigkeit KW - Atomic Layer Deposition KW - Al2O3-Schichten KW - Oberflächenenergie PY - 2019 SN - 978-3-00-062102-4 SP - 1 EP - 2 CY - Zeulenroda, Germany AN - OPUS4-47656 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Jahnke, Annika A1 - Beck, Aaron J. A1 - Becker, Richard L. A1 - Bedulina, Daria A1 - Braun, Ulrike A1 - Gerdts, Gunnar A1 - Hildebrandt, Lars A1 - Joerss, Hanna A1 - Klein, Ole A1 - Korduan, Janine A1 - Laforsch, Christian A1 - Lannig, Gisela A1 - Leslie, Heather A. A1 - Lips, Stefan A1 - Menger, Frank A1 - Nabi, Deedar A1 - Oberbeckmann, Sonja A1 - Primpke, Sebastian A1 - Pröfrock, Daniel A1 - Ramsperger, Anja F.R.M. A1 - Römerscheid, Mara A1 - Schmitt-Jansen, Mechthild A1 - Scholz-Böttcher, Barbara M. A1 - Tröppner, Oliver A1 - Wendt-Potthoff, Katrin A1 - Kühnel, Dana T1 - Perspective article: Multisectoral considerations to enable a circular economy for plastics N2 - Plastics are widely used but improper disposal and release lead to increasing global pollution, threatening environmental and human health. To address this issue, we suggest intersectoral collaboration to achieve zero plastic pollution. The outcomes of the project P-LEACH demonstrated the enormous complexity and range of potential toxic effects of plastic-associated chemicals and micro-/nanoplastics released into water from UV-weathered plastics. We initiated an intersectoral dialogue amongst scientists, manufacturers, regulators and representatives of civil society about how to alleviate the negative impacts of plastic pollution. Circular economy offers a framework for selecting non-toxic chemicals, extending product (re)use, and waste reduction, which act to alleviate pollution when applied to plastics. We suggest three measures to advance a circular economy of plastics: 1.) Increase simplicity of chemicals in virgin plastics combined with transparent information on the contents; 2.) Consider recyclability already in plastic material and product design; 3.) Foster communication through intersectoral dialogue. Major cornerstones are the provision of standardized, easy-to-use tools to characterize plastics and plastic leachates chemically and (eco)toxicologically, the enhancement of citizen awareness enabling them to make informed choices, the creation of economic incentives for manufacturers, and sector-specific regulations to provide products that safeguard environmental and human health. KW - Plastics KW - Circular economy KW - Cross-sectoral dialogue KW - Recyclability KW - Plastic-associated chemicals PY - 2025 UR - https://nbn-resolving.org/urn:nbn:de:kobv:b43-638280 DO - https://doi.org/10.1016/j.jhazmat.2025.139326 SN - 0304-3894 VL - 496 SP - 1 EP - 9 PB - Elsevier B.V. AN - OPUS4-63828 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -