TY - JOUR A1 - Jacobs, R. A1 - Meneve, J. A1 - Dyson, G. A1 - Teer, D. G. A1 - Jennett, N. M. A1 - Harris, P. A1 - von Stebut, J. A1 - Comte, C. A1 - Feuchter, P. A1 - Cavaleiro, A. A1 - Ronkainen, H. A1 - Holmberg, K. A1 - Beck, Uwe A1 - Reiners, Georg A1 - Ingelbrecht, C. D. T1 - A certified reference material for the scratch test JF - Surface and coatings technology N2 - Adhesion and other mechanical behaviour of coatings is at present routinely tested in industry and research organisations using the scratch test. The test has been the subject of a European Standard prEN 1071-3:2000 established by the European Standards Committee CEN TC184 WG5. A previous European project on the development and validation of test methods for thin hard coatings—FASTE—revealed that uncertainties in the Rockwell C stylus tip shape represent a major source of error for the scratch-test method. Therefore a follow-up project—REMAST—was started to develop and certify a reference material as a quality control tool for the testing and qualification of scratch-test instruments. In addition, a considerable effort was devoted to improve the scratch stylus manufacturing process. This paper presents the results of the REMAST project. During a feasibility study, two candidate materials—titanium nitride (TiN) and diamond-like carbon (DLC) coatings both on high speed steel substrates—were evaluated. Because of the lower sensitivity to styli tip shape variations and higher data scatter observed for the TiN coating, DLC was chosen as the reference material to be certified. One thousand samples were produced, as well as qualified styli to carry out the certification campaign, including homogeneity and stability testing. Nine independent laboratories were involved in the certification exercise, and the data were statistically analysed to obtain the certified critical load values and their uncertainty ranges. A certified reference material BCR-692 is available for verification purposes. This presents three repeatable failure events at certified critical load intervals and can provide a good indication of overall scratch-test instrument performance, including stylus condition and calibration. It is also useful as a diagnostic tool, providing a means of sensitive monitoring of machine and stylus performance over extended periods. Considerable improvement of the quality of scratch styli was achieved by the strict control of all manufacturing steps. KW - Adhesion KW - Scratch test KW - Certified reference material PY - 2003 DO - https://doi.org/10.1016/S0257-8972(03)00470-5 SN - 0257-8972 VL - 174-175 SP - 1008 EP - 1013 PB - Elsevier Science CY - Lausanne AN - OPUS4-25435 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Sümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - About the calibration of thickness standards on the nanometer scale T2 - Proceedings of the 3rd international EUSPEN conference T2 - 3rd International EUSPEN conference ; 3rd International conference. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology ; 4th General meeting. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology CY - Eindhoven, The Netherlands DA - 2002-05-26 PY - 2002 SN - 90-386-2883-8 SP - 1 EP - 5 CY - Eindhoven AN - OPUS4-2283 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Beck, Uwe A1 - Krüger, A. T1 - Abschlussbericht für das Kooperationsprojekt zwischen Unternehmen und Forschungseinrichtungen (KF) - Nanoskalige Haftvermittler zur Erhöhung der Haft- bzw. Klebfestigkeit kritischer Verbundsysteme unter Verwendung von ALD-Hybridprozessen N2 - Aufzählung der wichtigsten wissenschaftlich-technischen und anderer wesentlicher Ergebnisse • ALD Abscheidungen auf Polymeren (PE, PP, PTFE) unter Atmosphärendruck und im Vakuum mit Ozon als Oxidationsmittel wurden durchgeführt: - Mit Variation der Schichtdicke - Mit Variation der Zykluszeit - Mit und ohne Ozon Vorbehandlung der Oberfläche • ALD Abscheidungen auf (PE, PP, PTFE) in Vakuum mit O2- und H2-Plasma Vorbehandlung wurden durchgeführt. - Mit Variation der Schichtdicke - Mit Variation der Zykluszeit - Mit und ohne Plasma Vorbehandlung der Oberfläche • Die ALD Prozesse wurden mit in situ Laserellipsometrie untersucht. • Die ALD Schichten wurden für die Haftfestigkeit bei der BAM ausgewerte KW - ALD-Abscheidungen KW - Plasma Vorbehandlung KW - Laserellipsometrie KW - Haftfestigkeit PY - 2017 N1 - Das Dokument unterliegt der Vertraulichkeit und kann nicht zugänglich gemacht werden - The document is subject to confidentiality restrictions and cannot be made accessible - Projektlaufzeit: 01.07.2015-30.06.2017 - Project runtime: 01.07.2015-30.06.2017 SP - 1 EP - 17 AN - OPUS4-50386 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - van der Kolk, G. J. A1 - Hurkmans, A. A1 - Trinh, T. A1 - Fleischer, W. A1 - Beck, Uwe A1 - Griepentrog, Michael T1 - Coating evaluation of decorative PVD finishes T2 - 41st Annual Technical Conference proceedings T2 - 41st Annual Technical Conference CY - Boston, MA, USA DA - 1998-04-18 PY - 1998 UR - http://www.knovel.com/web/portal/browse/display?_EXT_KNOVEL_DISPLAY_bookid=272 SN - 1-591-24158-8 SP - 44 EP - 45 PB - Society of Vacuum Coaters CY - Albuquerque AN - OPUS4-607 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Ickert, Stefanie A1 - Schwaar, Timm A1 - Springer, A. A1 - Grabarics, M. A1 - Riedel, Jens A1 - Beck, S. A1 - Pagel, K. A1 - Linscheid, M. W. T1 - Comparison of the fragmentation behavior of DNA and LNA single strands and duplexes JF - Journal of Mass Spectrometry N2 - DNA and locked nucleic acid (LNA) were characterized as single strands, as well as double stranded DNA-DNA duplexes and DNA-LNA hybrids using tandem mass spectrometry with collision-induced dissociation. Additionally, ion mobility spectrometry was carried out on selected species. Oligonucleotide duplexes of different sequences – bearing mismatch positions and abasic sites of complementary DNA 15-mers – were investigated to unravel general trends in their stability in the gas phase. Single stranded LNA oligonucleotides were also investigated with respect to their gas phase behavior and fragmentation upon collision-induced dissociation. In contrast to the collision-induced dissociation of DNA, almost no base loss was observed for LNAs. Here, backbone cleavages were the dominant dissociation pathways. This finding was further underlined by the need for higher activation energies. Base losses from the LNA strand were also absent in fragmentation experiments of the investigated DNA-LNA hybrid duplexes. While DNA-DNA duplexes dissociated easily into single stranded fragments, the high stability of DNA-LNA hybrids resulted in predominant fragmentation of the DNA part rather than the LNA, while base losses were only observed from the DNA single strand of the hybrid. KW - Oligonucleotide fragmentation KW - Locked nucleic acids KW - Collision induced dissociation (CID) KW - Double strands KW - Ion mobility spectrometry PY - 2019 DO - https://doi.org/10.1002/jms.4344 VL - 54 IS - 5 SP - 402 EP - 411 PB - Wiley AN - OPUS4-47485 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Beck, Uwe A1 - Reiners, Georg A1 - Kopacz, U. A1 - Jehn, H.A. T1 - Decorative hard coatings: interdependence of optical, stoichiometric and structural properties JF - Surface and coatings technology PY - 1993 SN - 0257-8972 VL - 60 SP - 389 EP - 395 PB - Elsevier Science CY - Lausanne AN - OPUS4-6959 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Beck, Uwe A1 - Reiners, Georg A1 - Urban, Ingrid A1 - Jehn, H.A. A1 - Kopacz, U. A1 - Schack, H. T1 - Decorative hard coatings: new layer systems without allergy risk JF - Surface and coatings technology PY - 1993 SN - 0257-8972 VL - 61 SP - 215 EP - 222 PB - Elsevier Science CY - Lausanne AN - OPUS4-6957 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Reiners, Georg A1 - Beck, Uwe A1 - Jehn, H.A. T1 - Decorative optical coatings JF - Thin solid films KW - Nitrides KW - Optical properties KW - Physical vapour desposition KW - Structural properties PY - 1994 SN - 0040-6090 VL - 253 SP - 33 EP - 40 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-6956 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Hasche, K. A1 - Herrmann, K. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Ade, G. A1 - Pohlenz, F. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Schindler, A. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium N2 - Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium. Technische Universität Ilmenau ; Herbstkonferenz der Gesellschaft für Arbeitswissenschaft ; 6. Workshop Multimedia für Bildung und Wirtschaft CY - Ilmenau, Deutschland DA - 2002-09-23 PY - 2002 UR - http://publica.fraunhofer.de/documents/N-14872.html VL - 47 SP - 568 EP - 569 PB - Techn. Univ. CY - Ilmenau AN - OPUS4-2284 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Maser, K. A1 - Mohr, U. A1 - Leihkauf, R. A1 - Ecker, Klaus A1 - Beck, Uwe A1 - Grambole, D. A1 - Grötzschel, R. A1 - Herrmann, F. A1 - Krauser, J. A1 - Weidinger, A. T1 - Hydrogen migration in wet-thermally grown silicon dioxide layers due to high dose 15N ion beam irradiation JF - Microelectronic engineering N2 - Three effects have been observed in wet-thermally grown structures under bombardement with energetic 15N ions: (1) Out-diffusion of H from the SiO2/Si system through the surface, (2) Accumulation of H at the SiO2/Si interface, (3) Changes in the optical fingerprint spectra of Ψ and Δ in dependence on λ (wavelength) obtained by ellipsometric measurements. PY - 1999 DO - https://doi.org/10.1016/S0167-9317(99)00356-1 SN - 0167-9317 SN - 1873-5568 VL - 48 IS - 1-4 SP - 139 EP - 142 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-25572 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -