TY - RPRT A1 - Beck, Uwe A1 - Fritz, Thomas A1 - Gamer, Nadja A1 - Wirth, Thomas T1 - VAMAS - Versailles Project on Advanced Materials and Standards N2 - Glühentladung optischer Ausstrahlungsspektroskopie (GDOES) wurde ursprünglich für die elementare Analyse von Größenmaterialien entwickelt. Mehrere Gruppen führten diese Methode zur Analyse von Anstrichen, Laienstapeln und dünnen Filmen durch. In den frühen Neunzigern wurde eine ISO-TC 201-Arbeitsgruppe gegründet, um Normen für alle Formen der Glühentladungsspektroskopie (GDS) zu entwickeln und die Fähigkeiten der Oberflächenchemikalien-Analyse zu beurteilen, insbesondere für die Tiefe von gestuften Systemen. Die Quantifizierung von Tiefenprofilen, d.h. die Umwandlung von Intensitäts-Zeit- Profilen in Konzentrierungs-Tiefen-Profile ist für dc-mode entwickelt worden. 1997 wurde ein VAMAS TWA 2 Vorschlag für ein Referenzanstrich für GD-OES Tiefe gemacht. Entsprechend dem VAMAS Beurteilungsverfahren wurde dieser Vorschlag 1998 mit einigen geringfügigen Änderungen genehmigt. T3 - BAM Forschungsberichtreihe - 242 PY - 2001 U6 - http://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:kobv:b43-2083 SN - 978-3-89701-713-X SN - 0938-5533 VL - 242 SP - 1 EP - 64 PB - Wirtschaftsverlag NW CY - Bremerhaven AN - OPUS4-208 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Wirth, Thomas A1 - Sahre, Mario A1 - Männ, Marion A1 - Gamer, Nadja A1 - Hoffmann, V. A1 - Hentschel, R. A1 - Brauneck, U. A1 - Mollenhauer, R. ED - Berg, S. T1 - Reference coatings for gdoes depth profiling - Preliminary results of a VAMAS project T2 - 7th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE 2000) CY - Garmisch-Partenkirchen, Germany DA - 2000-09-17 PY - 2000 SN - 0257-8972 IS - 142-144 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-970 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan A1 - Wirth, Thomas A1 - Reiners, Georg ED - Berg, S. T1 - Glow Discharge Optical Emission Spectroscopy (GDOES) - A powerful tool for the characterisation of coatings T2 - 7th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE 2000) CY - Garmisch-Partenkirchen, Germany DA - 2000-09-17 PY - 2000 SN - 0257-8972 IS - 142-144 SP - 1(?) EP - 15(?) PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-960 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Oran, Umut A1 - Ünveren, Ercan A1 - Wirth, Thomas A1 - Unger, Wolfgang T1 - Poly-dimethyl-siloxane (PDMS) contamination of polystyrene (PS) oligomers samples: a comparison of time-of-flight static secondary ion mass spectrometry (TOF-SSIMS) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) results N2 - Pure and PDMS contaminated PS oligomers films were investigated both by time-of-flight static secondary ion mass spectrometry (TOF-SSIMS) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The secondary ion spectra from the PDMS contaminated PS oligomers were almost completely related to PDMS. XPS revealed a PDMS contamination characterized by a silicon surface concentration of 6 at.%. Obviously siloxane contaminants existing on the surface of a silicon wafer may diffuse towards the PS oligomers outermost surface resulting in a rather high PDMS surface concentration of about 85%. Due to the known differences in the information depth and sensitivity of SSIMS and XPS very different detection limits are to be considered. In elimination of siloxane contaminants by ultrasonication in hexane was found to be an effective way. Another common organic cleaning procedure, which is ultrasonication in trichloroethylene (TCE), subsequently in isopropanol and finally in acetone was found to be ineffective for cleaning of PDMS contaminated silicon wafers. KW - PDMS KW - TOF-SIMS KW - Polystyrene KW - Segregation PY - 2004 U6 - https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2003.12.008 SN - 0169-4332 SN - 1873-5584 VL - 227 SP - 318 EP - 324 PB - North-Holland CY - Amsterdam AN - OPUS4-3479 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan A1 - Wirth, Thomas A1 - Unger, Wolfgang T1 - Schichtanalyse mit der optischen Glimmentladungsspektroskopie (GD-OES) PY - 2000 SN - 1662-3096 SN - 0040-1498 SN - 0040-148X SN - 1023-0823 PB - Binkert Medien CY - Laufenburg AN - OPUS4-1055 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Kuhmann, J. A1 - Harde, P. A1 - Pech, O. A1 - Pittroff, W. A1 - Preuß, A. A1 - Adolphi, B. A1 - Wirth, Thomas A1 - Österle, Werner ED - Reichl, H. T1 - Fluxless flip-chip bonding for the photonic assembly - comparison between evaporated SnPb (60/40) and AuSn (80/20) solder T2 - 5th International Conference on Micro-Electro-, -Opto-, -Mechanical Systems and Components CY - Potsdam, Germany DA - 1996-09-17 PY - 1996 SN - 3-8007-2200-3 VL - 5 SP - 91 EP - 97 PB - VDE-Verl. CY - Berlin AN - OPUS4-2544 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Senoner, Mathias A1 - Wirth, Thomas A1 - Unger, Wolfgang T1 - Teststreifen für den Nanokosmos KW - Laterale Auflösung KW - Nanometrologie KW - Nanotechnologie KW - Oberflächenanalytik KW - Zertifiziertes Referenzmaterial PY - 2004 UR - http://www.laborpraxis.de/ SN - 0344-1733 SN - 1610-8256 VL - 27 IS - Juli/Aug SP - 30 EP - 32, Sonderh. Nanotechnologie PB - Vogel CY - Würzburg AN - OPUS4-3808 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Wirth, Thomas A1 - Beck, Uwe A1 - Hoffmann, V. A1 - Kurt, R. A1 - Kämmer, K. A1 - Thielsch, R. T1 - Interference Phenomena at Transparent Layers in Glow Discharge Optical Emission Spectrometry KW - Glow discharge optical emission spectroscopy KW - Depth profile KW - Interference KW - Transparent layers KW - Layer thickness KW - Refractive index KW - GD-OES PY - 1999 SN - 0003-7028 SN - 1943-3530 VL - 53 IS - 8 SP - 987 EP - 990 PB - Society for Applied Spectroscopy CY - Frederick, Md. AN - OPUS4-777 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Hodoroaba, Vasile-Dan A1 - Wirth, Thomas T1 - Pressure influence on the depth resolution of rf-glow discharge depth profiling of multilayer coatings KW - rf system PY - 1999 SN - 0267-9477 SN - 1364-5544 VL - 14 SP - 1533 EP - 1535 PB - Royal Society of Chemistry CY - London AN - OPUS4-794 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Almagro, J.-F. A1 - Busch, P. A1 - Gohil, D. D. A1 - Heikinheimo, E. A1 - Karduck, P. A1 - Richter, S. A1 - Sloof, W. G. A1 - Thiot, J.-F. A1 - Wirth, Thomas T1 - Electron-Probe MICROanalysis of LighT Elements - Measurement Methods and Certified Reference Materials (MICROLITE) PY - 2002 IS - 65 SP - 1 EP - 156 PB - National Physical Laboratory CY - Teddington, Middlesex AN - OPUS4-1911 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -