TY - GEN A1 - Görner, Wolf A1 - Hentschel, Manfred P. A1 - Müller, Bernd R. A1 - Riesemeier, Heinrich A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. T1 - The first hard X-rays at the BAMline PY - 2001 UR - http://www.helmholtz-berlin.de/media/media/oea/web/pr_webseite/druckschriften/berichte/bessy/annualreport2000.pdf#page=329 SN - 0179-4159 SP - 329 EP - 331 PB - Berliner Elektronenspeicherring-Gesellschaft für Synchrotronstrahlung CY - Berlin AN - OPUS4-1299 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Müller, Bernd R. A1 - Görner, Wolf A1 - Hentschel, Manfred P. A1 - Riesemeier, Heinrich A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Diete, W. A1 - Klein, U. A1 - Frahm, R. T1 - BAMlin - the first hard X-ray beamline at BESSY II N2 - The first hard X-ray beamline at BESSY II will be installed by BAM and PTB at a superconducting 7 T wavelength shifter. The main optical elements of the beamline are a Double-Multilayer-Monochromator and a Double-Crystal-Monochromator. The two devices can be used separately or in-line. Main applications of monochromatic radiation with photon energies up to 50 keV are X-ray fluorescence analysis, micro-computed tomography, X-ray topography, detector calibration and reflectometry. Calculable undispersed radiation up to 200 keV will be available for radiometric applications. KW - Double-Multilayer-Monochromator with meridional bender KW - Double-Crystal-Monochromator with sagittal bender KW - X-ray fluorescence analysis KW - Micro-computed tomography KW - X-ray topography KW - Detector calibration KW - Reflectometry PY - 2001 U6 - https://doi.org/10.1016/S0168-9002(01)00466-1 SN - 0168-9002 SN - 0167-5087 VL - 467-468 IS - 1 SP - 703 EP - 706 PB - North-Holland CY - Amsterdam AN - OPUS4-1171 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Sümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - About the calibration of thickness standards on the nanometer scale T2 - 3rd International EUSPEN conference ; 3rd International conference. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology ; 4th General meeting. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology CY - Eindhoven, The Netherlands DA - 2002-05-26 PY - 2002 SN - 90-386-2883-8 SP - 1 EP - 5 CY - Eindhoven AN - OPUS4-2283 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Hasche, K. A1 - Herrmann, K. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Ade, G. A1 - Pohlenz, F. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Schindler, A. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche N2 - Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium. Technische Universität Ilmenau ; Herbstkonferenz der Gesellschaft für Arbeitswissenschaft ; 6. Workshop Multimedia für Bildung und Wirtschaft CY - Ilmenau, Deutschland DA - 2002-09-23 PY - 2002 UR - http://publica.fraunhofer.de/documents/N-14872.html VL - 47 SP - 568 EP - 569 PB - Techn. Univ. CY - Ilmenau AN - OPUS4-2284 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Koenders, L. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Beck, Uwe A1 - Procop, Mathias T1 - Über die metrologische Charakterisierung von Schichtdicken Standards im Nanometerbereich T2 - 12th Applied Surface Analysis Workshop ; AOFA 12 CY - --- DA - 2002-09-15 PY - 2002 AN - OPUS4-2285 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Realisation and metrological characterisation of thickness standards below 100 nm T2 - DVG Jahrestagung 2002 CY - Magdeburg, Germany DA - 2002-06-17 PY - 2002 SP - 1 EP - 9 PB - Deutsche Vakuum-Gesellschaft CY - Kaiserslautern AN - OPUS4-1936 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Göbel, E. O. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Herrmann, K. A1 - Koenders, L. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Pohlenz, F. A1 - Xu, M. A1 - Dai, G. A1 - Hoffmann, K.-P. A1 - Busch, I. A1 - Frank, W. A1 - Procop, M. A1 - Beck, Uwe T1 - Kalibrierte Schichtdicken-Maßverkörperungen für Nanometerschichten, Teilvorhaben - Kalibrierung von Schichtdicken-Maßverkörperungen im Nanometerbereich - Abschlussbericht des BMBF Verbundvorhabens 13N7704 - 13N77041 KW - Schichtdicke KW - Nanometerbereich PY - 2003 UR - http://edok01.tib.uni-hannover.de/edoks/e01fb02/373214030.pdf SP - 1 EP - 131 PB - Physikalisch-Technische Bundesanstalt CY - Dresden AN - OPUS4-25428 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Realisation and metrological characterisation of thickness standards below 100 nm N2 - High-accuracy film thickness measurements in the range below 100 nm can be made by various complex methods like spectral ellipsometry (SE), scanning force microscopy (SFM), grazing incidence X-ray reflectometry (GIXR), or X-ray fluorescence analysis (XRF). The measurement results achieved with these methods are based on different interactions between the film and the probe. A key question in nanotechnology is how to achieve consistent results on a level of uncertainty below one nanometre with different techniques. Two different types of thickness standards are realised. Metal film standards for X-ray techniques in the thickness range 10 to 50 nm are calibrated by GIXR with monochromatised synchrotron radiation of 8048 eV. The results obtained at four different facilities show excellent agreement. SiO2 on Si standards for SE and SFM in the thickness range 6 to 1000 nm are calibrated by GIXR with monochromatised synchrotron radiation of 1841 eV and with a metrological SFM. Consistent results within the combined uncertainties are obtained with the two methods. Surfaces and interfaces of both types of standards are additionally investigated by transmission electron microscopy (TEM). PY - 2004 U6 - https://doi.org/10.1007/s00339-003-2273-7 SN - 0947-8396 VL - 78 IS - 5 SP - 645 EP - 649 PB - Springer CY - Berlin AN - OPUS4-17195 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Beckhoff, B. A1 - Hahn, Oliver A1 - Weser, J. A1 - Wilke, M. A1 - Ulm, G. A1 - Jann, Oliver T1 - Environmental Analyses by TXRF - NEXAFS and IR-Spectroscopy: Speciation of Br in Organics and Characterization of the Organic Matrix KW - TXRF-NEXAFS KW - FTIR KW - Environmental analyses PY - 2006 UR - http://www.helmholtz-berlin.de/media/media/oea/web/pr_webseite/druckschriften/berichte/bessy/annualreport2005.pdf#page=30 SN - 0179-4159 SP - 28 EP - 30 PB - Berliner Elektronenspeicherring-Gesellschaft für Synchrotronstrahlung CY - Berlin AN - OPUS4-12410 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Ewers, Benjamin A1 - Kupsch, Andreas A1 - Lange, Axel A1 - Müller, Bernd R. A1 - Hoehl, a. A1 - Müller, R. A1 - Ulm, G. T1 - Terahertz spectral computed tomography N2 - The novel technique of spectral THz computed tomography is demonstrated at an example of a small plastic figure. The data are reconstructed by conventional filtered back-projection. The reconstruction are discussed. T2 - IRMMW-THz 2009 - 34th International conference on infrared, millimeter, and terahertz waves CY - Busan, Korea DA - 2009-09-21 KW - THz KW - Computed tomography PY - 2009 SN - 978-1-4244-2120-6 SP - 1 EP - 2(?) AN - OPUS4-20546 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -