TY - GEN A1 - Paatsch, Wolfgang A1 - Beck, Uwe A1 - Senoner, Mathias T1 - Entwicklung von Referenzmaterialien für die Oberflächentechnik im Mikrometer- und Nanometerbereich T2 - Oberflächentage 2004 T2 - Oberflächentage 2004 ; 42. Jahrestagung. Deutsche Gesellschaft für Galvano- und Oberflächentechnik CY - Dresden, Deutschland DA - 2004-09-22 KW - Laterale Auflösung KW - Nanometrologie KW - Nanotechnologie KW - Oberflächenanalytik KW - Zertifiziertes Referenzmaterial PY - 2004 SN - 3-9806061-2-0 SP - 263 EP - 266 PB - DGO CY - [Hilden] AN - OPUS4-4582 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Senoner, Mathias A1 - Beck, Uwe A1 - Paatsch, Wolfgang T1 - Materialien mit Maß JF - Metalloberfläche KW - Nanometrologie KW - Nanotechnologie KW - Oberflächenanalytik KW - Qualitätssicherung KW - Schichtanalytik KW - Zertifiziertes Referenzmaterial PY - 2005 SN - 0026-0797 SN - 0043-2792 VL - 59 IS - 1-2 SP - 28 EP - 31 PB - IGT, Informationsges. Technik CY - München AN - OPUS4-7143 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Paatsch, Wolfgang A1 - Beck, Uwe A1 - Senoner, Mathias T1 - Development of reference materials for surface technology in the micrometer and nanometer range T2 - AESF SUR/FIN 2004 & Interfinish 2004 World Congress T2 - AESF SUR/FIN 2004 ; Interfinish 2004 World Congress CY - Chicago, IL, USA DA - 2004-06-28 KW - Reference materials KW - Zerstörungsfreie Prüfung KW - Referenzmaterialien PY - 2004 SP - 369 EP - 385 PB - American Electroplaters and Surface Finishers Society (AESF) CY - Orlando AN - OPUS4-4130 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -