TY - GEN A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Sümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - About the calibration of thickness standards on the nanometer scale T2 - 3rd International EUSPEN conference ; 3rd International conference. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology ; 4th General meeting. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology CY - Eindhoven, The Netherlands DA - 2002-05-26 PY - 2002 SN - 90-386-2883-8 SP - 1 EP - 5 CY - Eindhoven AN - OPUS4-2283 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Hasche, K. A1 - Herrmann, K. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Ade, G. A1 - Pohlenz, F. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Schindler, A. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche N2 - Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium. Technische Universität Ilmenau ; Herbstkonferenz der Gesellschaft für Arbeitswissenschaft ; 6. Workshop Multimedia für Bildung und Wirtschaft CY - Ilmenau, Deutschland DA - 2002-09-23 PY - 2002 UR - http://publica.fraunhofer.de/documents/N-14872.html VL - 47 SP - 568 EP - 569 PB - Techn. Univ. CY - Ilmenau AN - OPUS4-2284 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Koenders, L. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Beck, Uwe A1 - Procop, Mathias T1 - Über die metrologische Charakterisierung von Schichtdicken Standards im Nanometerbereich T2 - 12th Applied Surface Analysis Workshop ; AOFA 12 CY - --- DA - 2002-09-15 PY - 2002 AN - OPUS4-2285 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Seah, M.P. A1 - Spencer, S.J. A1 - Bensebaa, F. A1 - Vickridge, I. A1 - Danzebrink, H. A1 - Krumrey, M. A1 - Gross, Thomas A1 - Österle, Werner A1 - Wendler, E. A1 - Rheinländer, B. A1 - Azuma, Y. A1 - Kojima, I. A1 - Suzuki, N. A1 - Suzuki, M. A1 - Tanuma, S. A1 - Moon, D.W. A1 - Lee, H.J. A1 - Cho, H.M. A1 - Chen, H.Y. A1 - Wee, A. T. S. A1 - Osipowicz, T. A1 - Pan, J.S. A1 - Jordaan, W.A. A1 - Hauert, R. A1 - Klotz, U. A1 - van der Marel, C. A1 - Verheijen, M. A1 - Tamminga, Y. A1 - Jeynes, C. A1 - Bailey, P. A1 - Biswas, S. A1 - Falke, U. A1 - Nguyen, N.V. A1 - Chandler-Horowitz, D. A1 - Ehrstein, J.R. A1 - Muller, D. A1 - Dura, J.A. T1 - Ultra-thin SiO2 on Si, Part V: Results of a CCQM Pilot Study of Thickness Measurements KW - SiO2 KW - Thin films KW - Thickness KW - XPS KW - Ellipsometry KW - TEM PY - 2003 SN - 1473-2734 SP - 57 pages AN - OPUS4-4118 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Göbel, E. O. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Herrmann, K. A1 - Koenders, L. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Pohlenz, F. A1 - Xu, M. A1 - Dai, G. A1 - Hoffmann, K.-P. A1 - Busch, I. A1 - Frank, W. A1 - Procop, M. A1 - Beck, Uwe T1 - Kalibrierte Schichtdicken-Maßverkörperungen für Nanometerschichten, Teilvorhaben - Kalibrierung von Schichtdicken-Maßverkörperungen im Nanometerbereich - Abschlussbericht des BMBF Verbundvorhabens 13N7704 - 13N77041 KW - Schichtdicke KW - Nanometerbereich PY - 2003 UR - http://edok01.tib.uni-hannover.de/edoks/e01fb02/373214030.pdf SP - 1 EP - 131 PB - Physikalisch-Technische Bundesanstalt CY - Dresden AN - OPUS4-25428 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Realisation and metrological characterisation of thickness standards below 100 nm T2 - DVG Jahrestagung 2002 CY - Magdeburg, Germany DA - 2002-06-17 PY - 2002 SP - 1 EP - 9 PB - Deutsche Vakuum-Gesellschaft CY - Kaiserslautern AN - OPUS4-1936 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Görner, Wolf A1 - Hentschel, Manfred P. A1 - Müller, Bernd R. A1 - Riesemeier, Heinrich A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. T1 - The first hard X-rays at the BAMline PY - 2001 UR - http://www.helmholtz-berlin.de/media/media/oea/web/pr_webseite/druckschriften/berichte/bessy/annualreport2000.pdf#page=329 SN - 0179-4159 SP - 329 EP - 331 PB - Berliner Elektronenspeicherring-Gesellschaft für Synchrotronstrahlung CY - Berlin AN - OPUS4-1299 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Kim, K. J. A1 - Yu, H. A1 - Lee, S. M. A1 - Kwon, J. H. A1 - Ruh, H. A1 - Radnik, Jörg A1 - Archanjo, B. S. A1 - Annese, E. A1 - Damasceno, J. C. A1 - Achete, C. A. A1 - Yao, Y. A1 - Ren, L. A1 - Gao, H. A1 - Windover, D. A1 - Matsuzaki, H. A1 - Azuma, Y. A1 - Zhang, L. A1 - Fujimoto, T. A1 - Jordaan, W. A. A1 - Reed, B. A1 - Shard, A. G. A1 - Cibik, L. A1 - Gollwitzer, C. A1 - Krumrey, M. T1 - Final report of CCQM-K157 for the measurement of the amount of substance of HfO2 expressed as the thickness of nm films N2 - The key comparison CCQM-K157 for the thickness measurement of HfO2 films was performed by the Surface Analysis Working Group (SAWG) of the Consultative Committee for Amount of Substance (CCQM). The aim of CCQM-K157 is to establish the measurement traceability and to ensure the equivalency in the measurement capability of national metrology institutes for the thickness measurement of HfO2 films. In this key comparison, the thicknesses of six HfO2 films with the nominal thickness range from 0.7 nm to 6 nm were compared by x-ray photoelectron spectroscopy (XPS), x-ray reflectometry (XRR), transmission electron microscopy (TEM), spectroscopic ellipsometry (SE) and medium energy ion scattering spectrometry (MEIS). To reach the main text of this paper, click on Final Report. Note that this text is that which appears in Appendix B of the BIPM key comparison database https://www.bipm.org/kcdb/. The final report has been peer-reviewed and approved for publication by the CCQM, according to the provisions of the CIPM Mutual Recognition Arrangement (CIPM MRA). KW - CCQM KW - Thin Films KW - HfO2 KW - thickness KW - XPS PY - 2023 DO - https://doi.org/10.1088/0026-1394/60/1A/08010 VL - 60 SP - 08010 PB - IOP AN - OPUS4-63049 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -