TY - JOUR A1 - Plewinsky, Bodo A1 - Wegener, Wolfgang A1 - Herrmann, K.-P. T1 - Measurements of explosions pressures in calorimetric bombs PY - 1985 SN - 0040-6031 SN - 1872-762X IS - 094 SP - 33 EP - 42 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-1477 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Plewinsky, Bodo A1 - Wegener, Wolfgang A1 - Herrmann, K.-P. T1 - Oberflächendetonationen und erzwungene Zündung PY - 1988 SN - 0340-7551 IS - 18 SP - 369 EP - 373 PB - Bundesanstalt für Materialprüfung CY - Berlin AN - OPUS4-1478 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Plewinsky, Bodo A1 - Wegener, Wolfgang A1 - Herrmann, K.-P. T1 - Heterogeneous detonation along a wick PY - 1988 SN - 0079-6050 VL - 114 SP - 362 EP - 371 PB - Academic Press CY - New York, NY AN - OPUS4-1479 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Plewinsky, Bodo A1 - Wegener, Wolfgang A1 - Herrmann, K.-P. T1 - Surface detonation and indirect ignition processes PY - 1991 SN - 0079-6050 VL - 133 SP - 279 EP - 294 PB - Academic Press CY - New York, NY AN - OPUS4-1480 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Barfuss, Susanne A1 - Plewinsky, Bodo A1 - Hieronymus, Hartmut A1 - Wendler, Reinhold A1 - Olwig, Christian A1 - Herrmann, K.-P. T1 - Explosion behavior of bubbles of oxygen or air in combustible liquids PY - 1993 SN - 0208-4198 IS - 13 SP - 33 EP - 41 PB - Wydawn. Naukowe PWN CY - Warszawa AN - OPUS4-1481 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Sümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - About the calibration of thickness standards on the nanometer scale T2 - 3rd International EUSPEN conference ; 3rd International conference. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology ; 4th General meeting. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology CY - Eindhoven, The Netherlands DA - 2002-05-26 PY - 2002 SN - 90-386-2883-8 SP - 1 EP - 5 CY - Eindhoven AN - OPUS4-2283 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Hasche, K. A1 - Herrmann, K. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Ade, G. A1 - Pohlenz, F. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Schindler, A. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche N2 - Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium. Technische Universität Ilmenau ; Herbstkonferenz der Gesellschaft für Arbeitswissenschaft ; 6. Workshop Multimedia für Bildung und Wirtschaft CY - Ilmenau, Deutschland DA - 2002-09-23 PY - 2002 UR - http://publica.fraunhofer.de/documents/N-14872.html VL - 47 SP - 568 EP - 569 PB - Techn. Univ. CY - Ilmenau AN - OPUS4-2284 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Realisation and metrological characterisation of thickness standards below 100 nm T2 - DVG Jahrestagung 2002 CY - Magdeburg, Germany DA - 2002-06-17 PY - 2002 SP - 1 EP - 9 PB - Deutsche Vakuum-Gesellschaft CY - Kaiserslautern AN - OPUS4-1936 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Binder, Christian A1 - Wegener, Wolfgang A1 - Hengstenberg, Peter A1 - Herrmann, K.-P. A1 - Weinert, Dietmar ED - Schroll, D. T1 - Tests to Evaluate the Suitability of Materials for Oxygen Service T2 - 3rd International Symposium on Flammability and Sensitivity of Materials in Oxygen-Enriched Atmospheres CY - Cambridge, England, UK DA - 1987-04-06 PY - 1988 SN - 0-8031-0998-9 SN - 0066-0558 N1 - Serientitel: ASTM STP – Series title: ASTM STP VL - 3 IS - 986 SP - 268 EP - 278 PB - ASTM CY - Philadelphia AN - OPUS4-7633 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - RPRT A1 - Göbel, E. O. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Herrmann, K. A1 - Koenders, L. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Pohlenz, F. A1 - Xu, M. A1 - Dai, G. A1 - Hoffmann, K.-P. A1 - Busch, I. A1 - Frank, W. A1 - Procop, M. A1 - Beck, Uwe T1 - Kalibrierte Schichtdicken-Maßverkörperungen für Nanometerschichten, Teilvorhaben - Kalibrierung von Schichtdicken-Maßverkörperungen im Nanometerbereich - Abschlussbericht des BMBF Verbundvorhabens 13N7704 - 13N77041 KW - Schichtdicke KW - Nanometerbereich PY - 2003 UR - http://edok01.tib.uni-hannover.de/edoks/e01fb02/373214030.pdf SP - 1 EP - 131 PB - Physikalisch-Technische Bundesanstalt CY - Dresden AN - OPUS4-25428 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Realisation and metrological characterisation of thickness standards below 100 nm N2 - High-accuracy film thickness measurements in the range below 100 nm can be made by various complex methods like spectral ellipsometry (SE), scanning force microscopy (SFM), grazing incidence X-ray reflectometry (GIXR), or X-ray fluorescence analysis (XRF). The measurement results achieved with these methods are based on different interactions between the film and the probe. A key question in nanotechnology is how to achieve consistent results on a level of uncertainty below one nanometre with different techniques. Two different types of thickness standards are realised. Metal film standards for X-ray techniques in the thickness range 10 to 50 nm are calibrated by GIXR with monochromatised synchrotron radiation of 8048 eV. The results obtained at four different facilities show excellent agreement. SiO2 on Si standards for SE and SFM in the thickness range 6 to 1000 nm are calibrated by GIXR with monochromatised synchrotron radiation of 1841 eV and with a metrological SFM. Consistent results within the combined uncertainties are obtained with the two methods. Surfaces and interfaces of both types of standards are additionally investigated by transmission electron microscopy (TEM). PY - 2004 U6 - https://doi.org/10.1007/s00339-003-2273-7 SN - 0947-8396 VL - 78 IS - 5 SP - 645 EP - 649 PB - Springer CY - Berlin AN - OPUS4-17195 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Herrmann, K. A1 - Pech May, Nelson Wilbur A1 - Retsch, M. T1 - Photoacoustic thermal characterization of low thermal diffusivity thin films N2 - The photoacoustic measurement technique is a powerful yet underrepresented method to characterize the thermal transport properties of thin films. For the case of isotropic low thermal diffusivity samples, such as glasses or polymers, we demonstrate a general approach to extract the thermal conductivity with a high degree of significance. We discuss in particular the influence of thermal effusivity, thermal diffusivity, and sample layer thickness on the significance and accuracy of this measurement technique. These fundamental thermal properties guide sample and substrate selection to allow for a feasible thermal transport characterization. Furthermore, our data evaluation allows us to directly extract the thermal conductivity from this transient technique, without separate determination of the volumetric heat capacity, when appropriate boundary conditions are fulfilled. Using silica, poly(methyl methacrylate) (PMMA) thin films, and various substrates (quartz, steel, and silicon), we verify the quantitative correctness of our analytical approach. KW - Thermal conductivity KW - Photoacoustic characterization KW - Thin film characterization PY - 2021 U6 - http://nbn-resolving.de/urn/resolver.pl?urn:nbn:de:kobv:b43-528743 SN - 2213-5979 VL - 22 SP - 100246 PB - Elsevier AN - OPUS4-52874 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -