TY - GEN A1 - Reiners, Georg A1 - Beck, Uwe A1 - Gamer, Nadja A1 - Schmidt, R. A1 - Weigl, B. ED - Beckmann, D. T1 - Topographische Charakterisierung von Oberflächen im steriltechnischen Anlagenbau T2 - Technische Systeme für Biotechnologie und Umwelt T2 - 11. Heiligenstädter Kolloquium CY - Heiligenstadt, Deutschland DA - 2002-09-30 PY - 2003 SN - 3-00-011287-1 SP - 33 EP - 39 PB - Inst. für Bioprozess- und Analysenmesstechnik CY - Heiligenstadt AN - OPUS4-1738 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Klaffke, Dieter A1 - Beck, Uwe ED - Bartz, Wilfried J. T1 - Tribological and mechanical investigations of SiO2 and Si3N4 coatings on fused silica and borosilicate glass T2 - Tribology 2000 - plus T2 - 12th International Colloquium Tribology CY - Esslingen, Germany DA - 2000-01-11 PY - 2000 SN - 3-924813-44-2 VL - 3 SP - 1953 EP - 1959 PB - Techn. Akad. Esslingen CY - Ostfildern AN - OPUS4-849 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Baudach, Steffen A1 - Männ, Marion T1 - Spektroskopische Ellipsometrie - Referenzverfahren für die Qualitätssicherung T2 - 2. Workshop Ellipsometrie T2 - 2. Workshop Ellipsometrie CY - Berlin, Deutschland DA - 2002-02-18 PY - 2002 AN - OPUS4-2280 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Cobet, C. A1 - Wollschläger, Nicole A1 - Esser, N. A1 - Richter, W. A1 - Baudach, Steffen A1 - Beck, Uwe A1 - Männ, Marion A1 - Brunn, S. A1 - Gruska, B. A1 - Richter, U. T1 - VUV-XUV-Ellipsometrie mit Synchrotronstrahlung T2 - 2. Workshop Ellipsometrie T2 - 2. Workshop Ellipsometrie CY - Berlin, Deutschland DA - 2002-02-18 PY - 2002 AN - OPUS4-2282 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Herrmann, K. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Sümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - About the calibration of thickness standards on the nanometer scale T2 - Proceedings of the 3rd international EUSPEN conference T2 - 3rd International EUSPEN conference ; 3rd International conference. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology ; 4th General meeting. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology CY - Eindhoven, The Netherlands DA - 2002-05-26 PY - 2002 SN - 90-386-2883-8 SP - 1 EP - 5 CY - Eindhoven AN - OPUS4-2283 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Hasche, K. A1 - Herrmann, K. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Krumrey, M. A1 - Ulm, G. A1 - Ade, G. A1 - Pohlenz, F. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Schädlich, S. A1 - Frank, W. A1 - Hirsch, D. A1 - Schindler, A. A1 - Procop, Mathias A1 - Beck, Uwe T1 - Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium N2 - Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. T2 - 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium. Technische Universität Ilmenau ; Herbstkonferenz der Gesellschaft für Arbeitswissenschaft ; 6. Workshop Multimedia für Bildung und Wirtschaft CY - Ilmenau, Deutschland DA - 2002-09-23 PY - 2002 UR - http://publica.fraunhofer.de/documents/N-14872.html VL - 47 SP - 568 EP - 569 PB - Techn. Univ. CY - Ilmenau AN - OPUS4-2284 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Koenders, L. A1 - Hasche, K. A1 - Ulm, G. A1 - Krumrey, M. A1 - Ade, G. A1 - Stümpel, J. A1 - Busch, I. A1 - Thomsen-Schmidt, P. A1 - Schädlich, S. A1 - Schindler, A. A1 - Frank, W. A1 - Beck, Uwe A1 - Procop, Mathias T1 - Über die metrologische Charakterisierung von Schichtdicken Standards im Nanometerbereich T2 - 12th Applied Surface Analysis Workshop T2 - 12th Applied Surface Analysis Workshop ; AOFA 12 CY - --- DA - 2002-09-15 PY - 2002 AN - OPUS4-2285 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Cobet, C. A1 - Rakel, M. A1 - Schmidtling, T A1 - Richter, W. A1 - Esser, N. A1 - Gruska, B. T1 - A VUV-XUV ellipsometric setup at BESSY II: Optical characterisation of Nitride Semiconductors T2 - 3rd International Conference on Spectroscopic Ellipsometry T2 - 3rd International Conference on Spectroscopic Ellipsometry CY - Vienna, Austria DA - 2003-07-06 PY - 2003 AN - OPUS4-2907 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Beck, Uwe T1 - Spektroskopische Ellipsometrie: Mehr als ein Reflexionsexperiment mit polarisiertem Licht! JF - Journal für Oberflächentechnik PY - 2000 SN - 0021-3756 VL - 40 IS - 11 SP - 14 EP - 19 PB - Vieweg CY - Wiesbaden AN - OPUS4-1025 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Baudach, Steffen A1 - Beck, Uwe A1 - Arndt, Jürgen ED - Bräuer, G. T1 - Damage Analysis of Coating/Substrate Systems - Multiprobe Techniques for the Evaluation of Defects and Surface Topography from the Micrometer- to the Nanometer-Range T2 - Proceedings of the Eight International Conference on Plasma Surface Engineering (Surface & coatings technology 174/175.2003) T2 - 8th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE) CY - Garmisch-Partenkirchen, Germany DA - 2002-09-09 PY - 2002 SN - 0257-8972 VL - 174-175 IS - TuPSC25 SP - 265 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-1621 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -