TY - GEN A1 - Beck, Uwe T1 - Referenzverfahren zur Bestimmung von optischen und dielektrischen Materialeigenschaften sowie der Schichtdicke dünner Schichten mittels Ellipsometrie / Reference procedure for the determination of optical and dielectric material properties and the layer thickness of thin films by ellipsometry KW - Ellipsometrie PY - 2004 N1 - Sprachen: Deutsch/Englisch - Languages: German/English IS - DIN PAS 1022 SP - 1 EP - 17 PB - Beuth CY - Berlin AN - OPUS4-3000 LA - mul AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Beck, Uwe A1 - Hönig, D. A1 - Schneider, S. A1 - Domnick, R. A1 - Belzner, M. A1 - Hertwig, Andreas A1 - Stephanowitz, Ralph A1 - Sahre, Mario A1 - Weise, Matthias T1 - Fabry-Perot-based layer stacks for ellipsometric encoding - Embedded public, hidden, and forensic information for product authentication JF - Vakuum in Forschung und Praxis N2 - Public, hidden, and forensic features either encoded or directly legible are used for authentication. Fabry-Perot layer stacks as information carriers in combination with imaging ellipsometry as optical read-out system provide all-in-one anti-counterfeiting capability that may establish the new security level 'encoded forensic'. Different layer designs are described with regard to all three security levels: public features (e.g. color and tilt effect) perceptible by the human eye, hidden features (e.g. spectroscopic response in the UV or IR), and forensic features (ellipsometric quantities Ψ and Δ as a function of wavelength λ and angle of incidence AOI). Physically uncloneable functions (PUF) could be realized as a result of a multi-material and a multi-parameter deposition approach as well as by means of specific design features of the Fabry-Perot layer stack. Hence, they are not subject to any reverse engineering strategies. Examples of stratified, micro-structured, and laser-modified Fabry-Perot layer systems are considered that may be used at all perception levels (e.g. human eye, bar code reader, and imaging ellipsometry) for authentication against product counterfeiting and related areas. -------------------------------------------------------------------------------------------------------------------- Zur Authentifizierung werden offene, versteckte und forensische Merkmale entweder codiert oder direkt auslesbar verwendet. Mit Fabry-Perot Schichtsystemen als Informationsträger in Kombination mit der abbildenden Ellipsometrie als optischem Auslesesystem steht ein 'all-in-one' Fälschungsschutz-System zur Verfügung, das ein neues Sicherheitsniveau 'kodiert-forensisch' darstellt. Es werden unterschiedliche Schichtdesigns beschrieben, mit denen alle drei Sicherheitsniveaus realisiert werden können: offene Merkmale (z.B. Farbe und Kippeffekt), die mit dem menschlichen Auge wahrnehmbar sind, versteckte Merkmale (z.B. die spektrale Antwort im Sichtbaren oder im IR) sowie forensische Merkmale (ellipsometrische Größen Ψ und Δ als Funktion der Wellenlänge λ und des Einfallswinkels AOI). Physikalisch nicht klonbare Funktionen (PUF) können im Ergebnis einer Multi-Material- und Multi-Parameter Beschichtungsstrategie sowie durch spezifische Design-Merkmale des Fabry-Perot Schichtsystems realisiert werden. Folglich sind solche Schichtsysteme dem 'reverse engineering' nicht zugänglich. Es werden Beispiele für lateral ausgedehnte, mikrostrukturierte und Laser modifizierte Schichtsysteme auf verschiedenen Ausleseniveaus (menschliches Auge, Barcode-Lesegerät, abbildendes Ellipsometer) vorgestellt, die zur Authentifizierung von Produkten und verwandte Gebiete geeignet sind. KW - Fabry-Perot Schichten KW - Ellipsometrie KW - Produkt- und Markenschutz PY - 2012 DO - https://doi.org/10.1002/vipr.201200494 SN - 0947-076X SN - 1522-2454 VL - 24 IS - 4 SP - 6 EP - 11 PB - Wiley-VCH Verl. CY - Weinheim AN - OPUS4-26180 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Hertwig, Andreas A1 - Krüger, Jörg A1 - Weise, Matthias A1 - Beck, Uwe T1 - Hydrogen-Containing Amorphous Carbon Layers as Optical Materials in the Near-IR Spectral Range JF - Plasma processes and polymers N2 - Hydrogenated amorphous carbon layers were deposited on various substrates by means of a plasma CVD process with a RF substrate bias as well as an ECR plasma source. The optical properties of the a-C:H layers were obtained via spectroscopic ellipsometry and correlated with their mechanical and chemical properties. The layers from pure RF plasma exhibit a higher absorption constant in the visible spectral range and a higher refractive index. All layers are nearly transparent in the NIR spectral range making them candidates for optical thin layer systems. The laser damage behaviour of the a-C:H layers was investigated with ultrashort pulses. The damage thresholds were consistent with the absorption constants of the layers. Interesting damage morphologies were observed indicating a sensitivity of this experiment to sub-structures in the layer. KW - Kohlenstoffschichten KW - Optische Konstanten KW - Ellipsometrie KW - Laser-Material-Bearbeitung KW - Amorphous KW - Diamond-like carbon KW - Hydrocarbons KW - Laser ablation KW - Optical proper PY - 2007 SN - 1612-8850 SN - 1612-8869 VL - 4 IS - S1 SP - S76 EP - S82 PB - Wiley-VCH Verl. CY - Weinheim AN - OPUS4-14862 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - GEN A1 - Beck, Uwe T1 - Multidimensional Methods for Industrial Quality Assurance T2 - Optische Analytik in the Capital Region Berlin-Brandenburg N2 - The paper addresses the „Multidimensional Methods for Industrial Quality Assurance“ and the following points are discussed in more detail: thin film analysis, major trends regarding optical measuring methods. KW - optische Konstanten KW - Ellipsometrie KW - Klassifizierungssystem KW - Optical konstantyss KW - Ellipsometry KW - Classification stem PY - 2015 SP - 35 EP - 35 AN - OPUS4-37949 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas T1 - Ringversuch zur Klassifizierung von Kohlenstoffschichten mittels Ellipsometrie N2 - Der Vortrag widmet sich dem „Ringversuch zur Klassifizierung von Kohlenstoffschichten mittels Ellipsometrie“ und beschreibt die experimentellen Eckdaten, die Ellipsometrie als Messmethode am Beispiel DLC auf Stahl, Proben vs. n-k Ebene vs. Ergebnisse des Ringversuches, messtechnische Bewertung des Ringversuches und normative Bewertung des Ringversuches sowie Schlussfolgerungen. T2 - 9. Sitzung DIN NA 062-01-64 „Kohlenstoffschichten“ CY - Berlin, Deutschland DA - 09.05.2016 KW - Amorphe Kohlenstoffschichten KW - Optische Konstanten KW - Ellipsometrie KW - Klassifizierungssystem PY - 2016 AN - OPUS4-38041 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - JOUR A1 - Rosu, Dana Maria A1 - Petrik, P. A1 - Rattmann, G. A1 - Schellenberger, M. A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas T1 - Optical characterization of patterned thin films JF - Thin solid films N2 - The present study investigates the use of imaging and mapping ellipsometry to determine the properties of non-ideal and patterned thin film samples. Samples which are candidates for future references and standards were prepared for this purpose. The samples investigated were lithographically patterned SiO2 and photoresist layers. The thickness and the optical constants of the two materials were determined using spectroscopic ellipsometry in the visible spectral range. On a larger lateral scale of several mm lateral resolution, the homogeneity was investigated using a goniospectral rotating compensator ellipsometer. A nulling imaging ellipsometer was used to determine the properties of the sample on a smaller scale of 25–150 µm. KW - Spectroscopic imaging and mapping ellipsometry KW - Inhomogeneous and patterned thin films KW - SiO2 KW - Photoresist KW - Ellipsometrie KW - Patterned films PY - 2014 DO - https://doi.org/10.1016/j.tsf.2013.11.052 SN - 0040-6090 VL - 571 IS - 3 SP - 601 EP - 604 PB - Elsevier CY - Amsterdam AN - OPUS4-32695 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Beck, Uwe A1 - Hertwig, Andreas A1 - Winkler, J. T1 - Preliminary work item (PWI) 23131 on standardization of ellipsometry N2 - The paper addresses the PRELIMINARY WORK ITEM (PWI) 23131 ON STANDARDIZATION OF ELLIPSOMETRY and the following points are discussed in more detail: Historical background of ellipsometry, Technical/industrial importance of ellipsometry and Standardization activities on ellipsometry. T2 - ISO TC 107 and JWG 4 meeting CY - Levi, Finland DA - 23.01.2018 KW - Standardization KW - Ellipsometrie KW - Modelling KW - Accreditation PY - 2018 AN - OPUS4-43959 LA - eng AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER - TY - CONF A1 - Fischer, Daniel A1 - Beck, Uwe T1 - Visualisierung von mikro- und nanoskalierten Oberflächenstrukturen mittels abbildender Ellipsometrie T2 - Tagungsband, 14. ThGOT Thementage Grenz- und Oberflächentechnik und 6. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik N2 - In den letzten Jahren hat die Einbindung der abbildenden Ellipsometrie in die Gruppe der optischen Verfahren zur Oberflächencharakterisierung ein enormes Potential bei der Analyse von topologischen Strukturänderungen gezeigt. Der dabei abgebildete Kon-trast wurde typischerweise auf Änderungen im Brechungsindex, Absorptionseffekte oder Schichtdickenänderungen zurückgeführt. In späteren Studien wurde festgestellt, dass auch andere Faktoren, wie etwa die Krümmung der Oberfläche oder Kanten von Struktu-ren einen signifikanten Einfluss auf die Messung der ellipsometrischen Paramater haben. Um diese Effekte aus der ellipsometrischen Messung extrahieren zu können, wird auf die Analyse der Müller-Matrix zurückgegriffen. In dem hier vorliegenden Beitrag wird gezeigt, wie die Müller-Matrix-Imaging Ellipsomet-rie (MM-IE) zur Charakterisierung von Oberflächenstrukturen verwendet werden kann. Dazu werden mikro- und nanoskaliert gekrümmte Oberflächen zunächst mit verschiede-nen Referenzmethoden, wie Rasterelektronenmikroskopie (SEM), Lichtmikroskopie (OM), Weißlichtinterferenzmikroskopie (WLIM) und Rasterkraftmikroskopie (AFM) vali-diert erfasst. Der anschließende Vergleich mit den Ergebnissen der Müller-Matrix-Ima-ging-Ellipsometrie ermöglicht eine Korrelation der zugrunde liegenden Strukturphäno-mene mit den ellipsometrischen Daten. In diesem Artikel wird das Prinzip an drei industriell relevanten Strukturgruppen demonstriert: Sub-Mikropartikel, Mikropartikel und sub-mikroskalierte Vertiefungen. T2 - 14. ThGOT Thementage Grenz- und Oberflächentechnik und 6. Kolloquium Dünne Schichten in der Optik CY - Zeulenroda, Germany DA - 12.03.2019 KW - Ellipsometrie KW - Nanoskaliert KW - Mikroskaliert KW - Oberflächengeometrie KW - Brechungsindex KW - Müller-Matrix-Ellipsometrie PY - 2019 SN - 978-3-00-062102-4 SP - 1 EP - 5 AN - OPUS4-47646 LA - deu AD - Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung (BAM), Berlin, Germany ER -