Dokument-ID Dokumenttyp Autoren/innen Persönliche Herausgeber/innen Haupttitel Abstract Auflage Verlagsort Verlag Herausgeber (Institution) Erscheinungsjahr Titel des übergeordneten Werkes Jahrgang/Band ISBN Veranstaltung Veranstaltungsort Beginndatum der Veranstaltung Enddatum der Veranstaltung Ausgabe/Heft Erste Seite Letzte Seite URN DOI Lizenz Datum der Freischaltung OPUS4-2283 Beitrag zu einem Sammelband Hasche, K.; Ulm, G.; Herrmann, K.; Krumrey, M.; Ade, G.; Sümpel, J.; Busch, I.; Thomsen-Schmidt, P.; Schädlich, S.; Schindler, A.; Frank, W.; Procop, Mathias; Beck, Uwe About the calibration of thickness standards on the nanometer scale Eindhoven European Society for Precision Engineering and Nanotechnology 2002 Proceedings of the 3rd international EUSPEN conference 90-386-2883-8 3rd International EUSPEN conference ; 3rd International conference. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology ; 4th General meeting. European Society for Precision Engineering and Nanotechnology Eindhoven, The Netherlands 2002-05-26 2002-05-30 1 5 2016-02-19 OPUS4-2284 Beitrag zu einem Tagungsband Hasche, K.; Herrmann, K.; Thomsen-Schmidt, P.; Krumrey, M.; Ulm, G.; Ade, G.; Pohlenz, F.; Stümpel, J.; Busch, I.; Schädlich, S.; Frank, W.; Hirsch, D.; Schindler, A.; Procop, Mathias; Beck, Uwe Ein Beitrag zu kalibrierten Nanometerschichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche Nanotechnologien werden gegenwärtig als leistungsfähige Oberflächentechniken in erheblichem Umfange industriell genutzt. Dabei spielen dünne Schichten und deren Kenndaten eine wesentliche Rolle, z.B. als Röntgenspiegel oder optische und magnetooptische Datenträger. Die Schichtdicke zählt hierbei zu den technologisch wichtigen Parametern. Abgeleitet von Anwenderinteressen, werden für die Röntgenreflektometrie (XRR bzw. GIXR), Elektronenstrahl-Mikroanalyse (EPMA) und Röntgenfluoreszenzanalyse (XRF) einerseits und die Ellipsometrie andererseits zugeschnittene Schichtdickenmaßverkörperungen (SDM) entwickelt, gefertigt und untersucht. Das Ziel ist die Bereitstellung praxistauglicher, kalibrierter SDM, im weiteren Schichtdickennormale (SDN) genannt. SDN sind Maßverkörperungen, für die der Schichtdickenwert mit einer definierten Messunsicherheit bekannt und auf ein metrologisch anerkanntes Längennormal zurückgeführt ist. Berichtet wird über die Herstellung und messtechnische Charakterisierung der beiden spezifischen Varianten von Maßverkörperungen. Ilmenau Techn. Univ. Gesellschaft für Arbeitswissenschaft 2002 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium 47 47. Internationales Wissenschaftliches Kolloquium. Technische Universität Ilmenau ; Herbstkonferenz der Gesellschaft für Arbeitswissenschaft ; 6. Workshop Multimedia für Bildung und Wirtschaft Ilmenau, Deutschland 2002-09-23 2002-09-26 568 569 2016-02-19 OPUS4-2285 Beitrag zu einem Tagungsband Koenders, L.; Hasche, K.; Ulm, G.; Krumrey, M.; Ade, G.; Stümpel, J.; Busch, I.; Thomsen-Schmidt, P.; Schädlich, S.; Schindler, A.; Frank, W.; Beck, Uwe; Procop, Mathias Über die metrologische Charakterisierung von Schichtdicken Standards im Nanometerbereich 2002 12th Applied Surface Analysis Workshop 12th Applied Surface Analysis Workshop ; AOFA 12 --- 2002-09-15 2002-09-19 2016-02-19 OPUS4-17195 Zeitschriftenartikel Thomsen-Schmidt, P.; Hasche, K.; Ulm, G.; Herrmann, K.; Krumrey, M.; Ade, G.; Stümpel, J.; Busch, I.; Schädlich, S.; Schindler, A.; Frank, W.; Hirsch, D.; Procop, Mathias; Beck, Uwe Realisation and metrological characterisation of thickness standards below 100 nm High-accuracy film thickness measurements in the range below 100 nm can be made by various complex methods like spectral ellipsometry (SE), scanning force microscopy (SFM), grazing incidence X-ray reflectometry (GIXR), or X-ray fluorescence analysis (XRF). The measurement results achieved with these methods are based on different interactions between the film and the probe. A key question in nanotechnology is how to achieve consistent results on a level of uncertainty below one nanometre with different techniques. Two different types of thickness standards are realised. Metal film standards for X-ray techniques in the thickness range 10 to 50 nm are calibrated by GIXR with monochromatised synchrotron radiation of 8048 eV. The results obtained at four different facilities show excellent agreement. SiO2 on Si standards for SE and SFM in the thickness range 6 to 1000 nm are calibrated by GIXR with monochromatised synchrotron radiation of 1841 eV and with a metrological SFM. Consistent results within the combined uncertainties are obtained with the two methods. Surfaces and interfaces of both types of standards are additionally investigated by transmission electron microscopy (TEM). Berlin Springer 2004 Applied physics A 78 5 645 649 10.1007/s00339-003-2273-7 2016-02-19