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Comprehensive stoichiometric studies on the reaction of silicon in HF/HNO3 and HF/HNO3/H2SiF6 mixtures

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Metadaten
Author: Anja RietigORCiD, Thomas LangnerORCiD, Jörg AckerORCiDGND
URL:https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2022/cp/d1cp05418j
DOI:https://doi.org/10.1039/d1cp05418j
ISSN:1463-9076
Title of the source (English):Physical chemistry, chemical physics
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2022
Tag:etching; hydrogen; mechanism; nitrogen oxides; silicon; stoichiometry
Volume/Year:24
Issue number:5
First Page:3094
Last Page:3108
Faculty/Chair:Fakultät 2 Umwelt und Naturwissenschaften / FG Physikalische Chemie
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