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Correlation between sputter deposition parameters and I-V characteristics in double-barrier memristive devices

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Author: Finn Zahari, Felix Schlichting, Julian Strobel, Sven Dirkmann, Julia Cipo, Sven Gauter, Jan TrieschmannORCiD, Richard Marquardt, Georg Haberfehlner, Gerald Kothleitner, Lorenz Kienle, Thomas MussenbrockORCiDGND, Martin Ziegler, Holger Kersten, Hermann Kohlstedt
DOI:https://doi.org/10.1116/1.5119984
ISSN:1520-8559
Title of the source (English):Journal of Vacuum Science & Technology
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2019
Volume/Year:37
Issue number:6
First Page:061203
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Theoretische Elektrotechnik
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