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Composition and Electrical Properties of Ultra-Thin SiOxNy Layers Formed by rf Plasma Nitrogen Implantation/Plasma Oxidation Processes

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Metadaten
Author: Romuald B. Beck, Patrick Hoffmann, Dieter SchmeißerORCiD, Tomasz Bieniek, Andrzej Jakubowski
Document Type:Article
Language:English
Year of publication:2007
Quelle aus UBICO:Journal of Telecommunications and Information Technology 3(2007)S. 9 -15, 1509-4553
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik
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