Composition and Electrical Properties of Ultra-Thin SiOxNy Layers Formed by rf Plasma Nitrogen Implantation/Plasma Oxidation Processes
Author: | Romuald B. Beck, Patrick Hoffmann, Dieter SchmeißerORCiD, Tomasz Bieniek, Andrzej Jakubowski |
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Document Type: | Article |
Language: | English |
Year of publication: | 2007 |
Quelle aus UBICO: | Journal of Telecommunications and Information Technology 3(2007)S. 9 -15, 1509-4553 |
Faculty/Chair: | Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie |
Institution name at the time of publication: | Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik |