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FE-Simulation des thermischen Aufheizvorganges eines Silizium-Wafers im RTA (Rapid Thermal Anneal) - Prozess

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Metadaten
Author: Johannes Studener, Arnold Kühhorn
Title of the source (German):Tagungsband, 15. Deutschsprachige ABAQUS-Benutzerkonferenz, 22. - 23. September 2003, Fulda
Publisher:ABAQUS Deutschland GmbH
Place of publication:Aachen [u.a.]
Document Type:Conference Proceeding
Language:German
Year of publication:2003
Tag:RTA-Prozess; Silizium-Wafer; Simulation
Faculty/Chair:Fakultät 3 Maschinenbau, Elektro- und Energiesysteme / FG Strukturmechanik und Fahrzeugschwingungen
Institution name at the time of publication:Fakultät für Maschinenbau, Elektrotechnik und Wirtschaftsingenieurwesen (eBTU) / LS Strukturmechanik und Fahrzeugschwingungen
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