In situ studies of the atomic layer deposition of thin HfO2 dielectrics by ultra high vacuum atomic force microscope
Author: | Krzysztof Kolanek, Massimo TallaridaORCiD, Konstantin Karavaev, Dieter SchmeißerORCiD |
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Document Type: | Scientific journal article peer-reviewed |
Language: | English |
Year of publication: | 2010 |
Tag: | atomic layer deposition; dielectric; in situ; microscope |
Quelle aus UBICO: | Thin Solid Films 518(2010)16, S. 4688 - 4691, 0040-6090 |
Faculty/Chair: | Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie |
Institution name at the time of publication: | Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik |