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HfO2/Si interface formation in atomic layer deposition films: an in situ investigation

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Metadaten
Author: Massimo TallaridaORCiD, Konstantin Karavaev, Dieter SchmeißerORCiD
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2009
Tag:atomic layer deposition
Quelle aus UBICO:Journal of Vacuum Science and Technology B 27(2009)1, S. 300-304
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik
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