HfO2/Si interface formation in atomic layer deposition films: an in situ investigation
Author: | Massimo TallaridaORCiD, Konstantin Karavaev, Dieter SchmeißerORCiD |
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Document Type: | Scientific journal article peer-reviewed |
Language: | English |
Year of publication: | 2009 |
Tag: | atomic layer deposition |
Quelle aus UBICO: | Journal of Vacuum Science and Technology B 27(2009)1, S. 300-304 |
Faculty/Chair: | Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie |
Institution name at the time of publication: | Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik |