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About determining reliable etching rates and the role of temperature in kinetic experiments on acidic wet chemical etching of silicon

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Metadaten
Author: Anja RietigORCiD, Thomas LangnerORCiD, Jörg AckerORCiDGND
URL:https://pubs.rsc.org/en/content/articlelanding/2023/cp/d2cp05837e
DOI:https://doi.org/10.1039/D2CP05837E
ISSN:1463-9084
Title of the source (English):Physical Chemistry Chemical Physics
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2023
Volume/Year:25
Issue number:16
First Page:11387
Last Page:11397
Faculty/Chair:Fakultät 2 Umwelt und Naturwissenschaften / FG Physikalische Chemie
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