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Structural Mapping of Functional Ge Layers Grown on Graded SiGe Buffers for sub-10 nm CMOS Applications Using Advanced X-ray Nano-Diffraction

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Metadaten
Author: Marie-Ingrid Richard, Marvin Hartwig ZöllnerORCiD, Gilbert A. Chahine, Peter Zaumseil, Giovanni CapelliniORCiD, Maik HäberlenGND, Peter Storck, Tobias U. Schülli, Thomas Schröder
DOI:https://doi.org/10.1021/acsami.5b08645
ISSN:1944-8244
ISSN:1944-8252
Title of the source (English):ACS Applied Materials and Interfaces
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2015
Volume/Year:7
Issue number:48
First Page:26696
Last Page:26700
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Halbleitermaterialien
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