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Pulsed laser deposition of HfO2 and Pr(x)O(y) high-k films on Si(100)

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Metadaten
Author: Markus Ratzke, Dirk Wolfframm, Mathias Kappa, Simona Kouteva-Arguirova, Jürgen ReifGND
ISSN:0169-4332
Title of the source (English):Applied Surface Science
Document Type:Scientific journal article not peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2005
Contributing Corporation:IHP/BTU JointLab Cottbus
Volume/Year:247
Issue number:1-4
First Page:128
Last Page:133
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Experimentalphysik und funktionale Materialien
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Experimentalphysik / Materialwissenschaften
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