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Sensitivity of HfO2-based RRAM Cells to Laser Irradiation

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Author: Dmytro Petryk, Zoya Dyka, Eduardo Perez, Ievgen Kabin, Jens Katzer, Jan Schäffner, Peter LangendörferGND
DOI:https://doi.org/10.1016/j.micpro.2021.104376
ISSN:0141-9331
Title of the source (English):Microprocessors and Microsystems
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2021
Issue number:87
Article number:104376
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Systeme
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