Substrate Reactivity Effects in the Atomic Layer Deposition of Aluminum Oxide from Trimethylaluminum on Ruthenium
Author: | Massimo TallaridaORCiD, Kaupo Kukli, Marcel Michling, Mikko Ritala, Markku Leskelä, Dieter SchmeißerORCiD |
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ISSN: | 0897-4756 |
Title of the source (English): | Chemistry of Materials |
Document Type: | Scientific journal article peer-reviewed |
Language: | English |
Year of publication: | 2011 |
Volume/Year: | 23 |
Issue number: | 13 |
First Page: | 3159 |
Last Page: | 3168 |
Faculty/Chair: | Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie |
Institution name at the time of publication: | Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik |