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Substrate Reactivity Effects in the Atomic Layer Deposition of Aluminum Oxide from Trimethylaluminum on Ruthenium

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Metadaten
Author: Massimo TallaridaORCiD, Kaupo Kukli, Marcel Michling, Mikko Ritala, Markku Leskelä, Dieter SchmeißerORCiD
ISSN:0897-4756
Title of the source (English):Chemistry of Materials
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2011
Volume/Year:23
Issue number:13
First Page:3159
Last Page:3168
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik
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