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In situ study of the atomic layer deposition of HfO2 on Si

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Metadaten
Author: Krzysztof Kolanek, Massimo TallaridaORCiD, Marcel Michling, Dieter SchmeißerORCiD
ISSN:0734-2101
Title of the source (English):Journal of Vacuum Science and Technology
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2012
Issue number:A 30
First Page:01A143-1
Last Page:01A143-15
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik
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