In situ study of the atomic layer deposition of HfO2 on Si
Author: | Krzysztof Kolanek, Massimo TallaridaORCiD, Marcel Michling, Dieter SchmeißerORCiD |
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ISSN: | 0734-2101 |
Title of the source (English): | Journal of Vacuum Science and Technology |
Document Type: | Scientific journal article peer-reviewed |
Language: | English |
Year of publication: | 2012 |
Issue number: | A 30 |
First Page: | 01A143-1 |
Last Page: | 01A143-15 |
Faculty/Chair: | Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Angewandte Physik und Halbleiterspektroskopie |
Institution name at the time of publication: | Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Angewandte Physik / Sensorik |